iMobile手機之家, 10月18日消息 日前, 三星發表新聞稱其基於EUV技術的7nm LPP製程工藝已經開始投入生產, 根據三星官方資料, 其7nm LPP工藝可以有效縮減晶片面積40%, 同條件下可以提升20%性能表現或者50%的能耗降低. 其所採用光刻機型號為雙工件台NXE:3400B (光源功率280W) , 日產能1500片.
從產品規劃來看, 工藝已經已經成熟, 三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工藝製程SoC, 而根據此前消息, 高通的5G基帶晶片集也將採用三星代工.
iMobile手機之家, 10月18日消息 日前, 三星發表新聞稱其基於EUV (極紫外光刻) 技術的7nm LPP製程工藝已經開始投入生產, 根據三星官方資料, 其7nm LPP工藝可以有效縮減晶片面積40%, 同條件下可以提升20%性能表現或者50%的能耗降低. 其所採用光刻機型號為雙工件台NXE:3400B (光源功率280W) , 日產能1500片.
從產品規劃來看, 工藝已經已經成熟, 三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工藝製程SoC, 而根據此前消息, 高通的5G基帶晶片集也將採用三星代工.
