iMobile手机之家, 10月18日消息 日前, 三星发表新闻称其基于EUV技术的7nm LPP制程工艺已经开始投入生产, 根据三星官方资料, 其7nm LPP工艺可以有效缩减芯片面积40%, 同条件下可以提升20%性能表现或者50%的能耗降低. 其所采用光刻机型号为双工件台NXE:3400B (光源功率280W) , 日产能1500片.
从产品规划来看, 工艺已经已经成熟, 三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工艺制程SoC, 而根据此前消息, 高通的5G基带芯片组也将采用三星代工.
iMobile手机之家, 10月18日消息 日前, 三星发表新闻称其基于EUV (极紫外光刻) 技术的7nm LPP制程工艺已经开始投入生产, 根据三星官方资料, 其7nm LPP工艺可以有效缩减芯片面积40%, 同条件下可以提升20%性能表现或者50%的能耗降低. 其所采用光刻机型号为双工件台NXE:3400B (光源功率280W) , 日产能1500片.
从产品规划来看, 工艺已经已经成熟, 三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工艺制程SoC, 而根据此前消息, 高通的5G基带芯片组也将采用三星代工.
