同時, NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度 (overlay) 最高的產品, 達到了和3400B一樣的1.9nm (5nm要求執照2.4nm, 7nm要求至少3.5nm) . ASML將於本季度末開始量產Twinscan NXT:2000i, 價格未披露. 目前, NXE:3400B EUV光刻機的報價是1.2億美元一台, 傳統的ArF沉浸式光刻機 (14nm節點) 報價是7200萬美元之間, NXT:2000i肯定是在這兩者之間了.
最後簡單介紹下ASML公司, 其脫胎於荷蘭飛利浦的光刻研發小組, 2017年全球光刻機市場佔比7成, 是絕對的一哥, 後面跟著的是佳能, 尼康和上海微電子.
整合電路在製作過程中經曆材料製備, 掩膜, 光刻, 刻蝕, 清洗, 摻雜, 機械研磨等多個工序, 其中以光刻工序最為關鍵, 它是整個整合電路產業製造工藝先進程度的重要指標, 即在晶片製造過程中的掩膜圖形到矽襯底圖形之間的轉移.