新思科技Custom Design Platform為三星7LPP工藝技術提供定製設計

新思科技宣布, 新思科技 Custom Design Platform已經成功通過三星電子的認證, 可用於三星7nm LPP (低功耗+) 工藝. 三星7LPP工藝是其首款使用極紫外 (EUV) 光刻的半導體工藝技術, 與10nm FinFET相比, 可大大降低複雜性, 並提供更高的良率和更快的周轉時間. 新思科技定製設計工具已針對三星7LPP相關要求進行更新. 此外, 三星還將提供面向新思科技的工藝設計套件 (PDK) 和定製設計參考流程.

新思科技 Custom Design Platform已通過三星7LPP工藝技術認證. 該平台以Custom Compiler定製設計和版圖環境為核心, 並包括HSPICE, FineSim SPICE和CustomSim FastSPICE電路模擬, StarRC寄生參數提取以及IC Validator物理驗證. 為了支援高效的7LPP定製設計, 新思科技和三星共同開發了參考流程, 其中包含一組使用說明, 描述7nm設計和版圖的關鍵要求. 這些說明包括示例設計數據和執行典型設計和版圖任務的步驟, 涵蓋的主題包括電氣規則檢查, 電路模擬, 混合訊號模擬, 蒙特卡羅分析, 版圖, 寄生分析和電遷移.

為了通過三星認證, 新思科技對工具進行了優化, 以滿足7nm設計的嚴苛要求, 其中包括: • 精確的FinFET器件建模與器件老化效應• 先進的蒙特卡羅類比功能, 實現高效分析• 用於類比和RF設計的高性能瞬態雜訊模擬• 高性能的版圖後模擬, 實現寄生感知設計和模擬• 用於器件電壓檢查的動態電路ERC• 高性能晶體管級EM/IR分析, 最大限度地減少過度設計• FinFET器件陣列的高效符號化編輯• EUV支援• 基於覆蓋的過孔電阻提取

三星營銷團隊副總裁Ryan Sanghyun Lee表示: '我們與新思科技的定製設計合作在過去兩年中有了很大發展. 通過此次通力合作, 我們為7LPP工藝增添了新思科技Custom Design Platform支援, 包括基於新思科技工具的定製設計參考流程. '

新思科技產品營銷副總裁Bijan Kiani表示: '我們一直與三星緊密合作, 以簡化使用FinFET工藝技術的定製設計. 我們合作推出了認證工具, 參考流程, PDK, 模擬模型和運行集, 幫助三星客戶能夠使用7LPP工藝實現可靠的定製設計. '