新思科技Custom Design Platform为三星7LPP工艺技术提供定制设计

新思科技宣布, 新思科技 Custom Design Platform已经成功通过三星电子的认证, 可用于三星7nm LPP (低功耗+) 工艺. 三星7LPP工艺是其首款使用极紫外 (EUV) 光刻的半导体工艺技术, 与10nm FinFET相比, 可大大降低复杂性, 并提供更高的良率和更快的周转时间. 新思科技定制设计工具已针对三星7LPP相关要求进行更新. 此外, 三星还将提供面向新思科技的工艺设计套件 (PDK) 和定制设计参考流程.

新思科技 Custom Design Platform已通过三星7LPP工艺技术认证. 该平台以Custom Compiler定制设计和版图环境为核心, 并包括HSPICE, FineSim SPICE和CustomSim FastSPICE电路仿真, StarRC寄生参数提取以及IC Validator物理验证. 为了支持高效的7LPP定制设计, 新思科技和三星共同开发了参考流程, 其中包含一组使用说明, 描述7nm设计和版图的关键要求. 这些说明包括示例设计数据和执行典型设计和版图任务的步骤, 涵盖的主题包括电气规则检查, 电路仿真, 混合信号仿真, 蒙特卡罗分析, 版图, 寄生分析和电迁移.

为了通过三星认证, 新思科技对工具进行了优化, 以满足7nm设计的严苛要求, 其中包括: • 精确的FinFET器件建模与器件老化效应• 先进的蒙特卡罗模拟功能, 实现高效分析• 用于模拟和RF设计的高性能瞬态噪声仿真• 高性能的版图后仿真, 实现寄生感知设计和仿真• 用于器件电压检查的动态电路ERC• 高性能晶体管级EM/IR分析, 最大限度地减少过度设计• FinFET器件阵列的高效符号化编辑• EUV支持• 基于覆盖的过孔电阻提取

三星营销团队副总裁Ryan Sanghyun Lee表示: '我们与新思科技的定制设计合作在过去两年中有了很大发展. 通过此次通力合作, 我们为7LPP工艺增添了新思科技Custom Design Platform支持, 包括基于新思科技工具的定制设计参考流程. '

新思科技产品营销副总裁Bijan Kiani表示: '我们一直与三星紧密合作, 以简化使用FinFET工艺技术的定制设计. 我们合作推出了认证工具, 参考流程, PDK, 仿真模型和运行集, 帮助三星客户能够使用7LPP工艺实现可靠的定制设计. '