換擋半導體,迎來業績高速成長. 2014年起公司由光伏, 生物製藥為主拓展布局至泛半導體領域,換擋半導體迎來業績高速成長. 15年起公司成立濕法事業部, 逐步進軍清洗設備,基於自身在高純工藝系統整合中積累的技術與經驗,於2017年開發了出Ultron B200 和Ultron B300 的槽式濕法清洗設備和Ultron S200 和Ultron S300 的單片式濕法清洗設備產品系列,預計隨著客戶導入驗證進展順利迎來訂單放量.
高純工藝系統用於避免生產中雜質汙染,核心在於控制不純物. 目前應用於泛半導體(整合電路, 平板顯示, 光伏, LED等)和生物醫藥等先進高精度製造業的工藝介質(氣體, 化學品, 水等)高純輸配系統,用來確保工藝介質在製程中不受雜質汙染,是直接影響產品工藝精度與良率的關鍵配套系統,是這些行業生產工藝流程的不可分割的組成部分.
清洗貫穿整個半導體製造, 是重要環節之一,至純科技切入濕法清洗設備有望迎來廣闊空間. 半導體的清洗幾乎貫穿整個半導體的流程. 從矽片製造時需要對拋光好的矽晶圓進行清洗,去除表面的汙染物,到晶片製備中去除光刻膠, 濕法刻蝕, CVD等,再到最後的材料質檢. 每一個環節都需要清洗以保證下一步不受雜質的幹擾,保持產品的良率. 同時隨著晶片製程的不斷縮小,所需要的進行的清洗次數也就越來越多. 據統計,清洗工藝的次數佔到了在整個晶片製造工藝步驟的三分之一,是晶片製造的重要環節.
我們認為至純科技作為國內高純工藝系統龍頭,多年來深耕主業與半導體, 面板等領域主流客戶構建良好關係,有望進一步受益未來三年全球FAB廠東移趨勢,同時公司積極拓展, 向前道延伸至 2000 濕法清洗設備,客戶導入驗證順利進展之下有望迎來訂單釋放. 預計公司2018-2020年歸母淨利潤保持100%/51.1%/41.5%增速,對應實現歸母淨利潤0.94/1.42/2.01億元. 首次覆蓋,給予 '買入' 評級.