换挡半导体,迎来业绩高速成长. 2014年起公司由光伏, 生物制药为主拓展布局至泛半导体领域,换挡半导体迎来业绩高速成长. 15年起公司成立湿法事业部, 逐步进军清洗设备,基于自身在高纯工艺系统集成中积累的技术与经验,于2017年开发了出Ultron B200 和Ultron B300 的槽式湿法清洗设备和Ultron S200 和Ultron S300 的单片式湿法清洗设备产品系列,预计随着客户导入验证进展顺利迎来订单放量.
高纯工艺系统用于避免生产中杂质污染,核心在于控制不纯物. 目前应用于泛半导体(集成电路, 平板显示, 光伏, LED等)和生物医药等先进高精度制造业的工艺介质(气体, 化学品, 水等)高纯输配系统,用来确保工艺介质在制程中不受杂质污染,是直接影响产品工艺精度与良率的关键配套系统,是这些行业生产工艺流程的不可分割的组成部分.
清洗贯穿整个半导体制造, 是重要环节之一,至纯科技切入湿法清洗设备有望迎来广阔空间. 半导体的清洗几乎贯穿整个半导体的流程. 从硅片制造时需要对抛光好的硅晶圆进行清洗,去除表面的污染物,到芯片制备中去除光刻胶, 湿法刻蚀, CVD等,再到最后的材料质检. 每一个环节都需要清洗以保证下一步不受杂质的干扰,保持产品的良率. 同时随着芯片制程的不断缩小,所需要的进行的清洗次数也就越来越多. 据统计,清洗工艺的次数占到了在整个芯片制造工艺步骤的三分之一,是芯片制造的重要环节.
我们认为至纯科技作为国内高纯工艺系统龙头,多年来深耕主业与半导体, 面板等领域主流客户构建良好关系,有望进一步受益未来三年全球FAB厂东移趋势,同时公司积极拓展, 向前道延伸至 2000 湿法清洗设备,客户导入验证顺利进展之下有望迎来订单释放. 预计公司2018-2020年归母净利润保持100%/51.1%/41.5%增速,对应实现归母净利润0.94/1.42/2.01亿元. 首次覆盖,给予 '买入' 评级.