光學超材料是一種人造材料, 因其特殊納米結構而具備不尋常的光學性能. 近20年來, 研究人員已設計了多種超材料基器件, 但其特性無法改變. 基於此, 研究人員首先製備出由半導體納米顆粒陣列組成的砷化鎵薄膜, 之後利用電子束光刻技術和電漿體刻蝕技術, 製備出砷化鎵基超材料. 當光源通過時, 超材料可在納米尺度上利用半導體顆粒捕獲光源並使其高效地發生作用, 從而以每秒超1000億次的速度實現快速 '開啟' 和 '關閉' .
新光學超材料為實現超快資訊傳輸鋪平了道路, 同時相關技術可用於構造光學邏輯器件, 並為研製超快光學計算機提供了可能.