事實上, 目前在全球的前幾大晶圓代工廠商中, 英特爾的 10 納米製程還沒搞定, 因此距離 7 納米製程就更遙遠了. 而台積電的 7 納米製程量產比較順利, 會有蘋果, 海思, 高通, NVIDIA, AMD 等客戶陸續流片, 量產. 不過. 台積電的第一代 7 納米製程, 使用的還是傳統的多重曝光技術, 一直必須到 2019 年得第 2 代 7 納米製程才會使用 EUV 光刻技術.
格羅方德方面也走台積電相似的路線, 預計 2018 年量產的 7 納米 DUV 製程還是傳統的深紫外光刻技術. 對此, 號稱頻率可達 5GHz 的 AMD 7 納米 Zen 2處理器就會使用格羅方德的 7 納米製程技術, 2019 年初問世, 2020年 的再下一代才是 7 納米 EUV 製程技術.
相對於其他競爭對手, 三星在 EUV 技術上是最積極的. 也就是三星直接跳過了第一代非 EUV 光刻的 7 納米製程, 直接使用加入 EUV 技術的 7 納米 LPP 製程, 並且預定在 2018 年下半年正式量產. 日前, 新斯科技與三星已經聯合宣布, 三星使用的 7 納米 LPP 製程技術完成了 IC 驗證器的認證工作了.
在三星完成這次的認證之後, 三星的 7 納米 LPP 製程就可以立即提供認證的技術資料, 包括 DRC 設計規則檢查, LVS 布局與原理圖, 金屬填充技術檔等等給予相關客戶, 而這也意味著三星的 7 納米 LPP 製程正式進入可以量產的階段.
目前在 EUV 光刻技術競爭激烈下, 各家大廠搶 EUV 光刻機也成為重要經營項目之一. 根據之前的消息, ASML 的 EUV 光刻機中, 台積電訂購了大約 10 台, 三星訂購了大約 6 台, 英特爾訂購了 3 台, 而格羅方德的EUV訂單數量不詳, 中芯國際也訂購了 1 台 EUV 光刻機, 將用於 7 納米製程技術研究上, 預計 2019 年初交貨. 而就在各家廠商手中都握有 EUV 光刻機的情況下, 似乎未來在7納米節點上要勝出, 就必須對比大家的最後的技術與管理能力了.