事实上, 目前在全球的前几大晶圆代工厂商中, 英特尔的 10 纳米制程还没搞定, 因此距离 7 纳米制程就更遥远了. 而台积电的 7 纳米制程量产比较顺利, 会有苹果, 海思, 高通, NVIDIA, AMD 等客户陆续流片, 量产. 不过. 台积电的第一代 7 纳米制程, 使用的还是传统的多重曝光技术, 一直必须到 2019 年得第 2 代 7 纳米制程才会使用 EUV 光刻技术.
格罗方德方面也走台积电相似的路线, 预计 2018 年量产的 7 纳米 DUV 制程还是传统的深紫外光刻技术. 对此, 号称频率可达 5GHz 的 AMD 7 纳米 Zen 2处理器就会使用格罗方德的 7 纳米制程技术, 2019 年初问世, 2020年 的再下一代才是 7 纳米 EUV 制程技术.
相对于其他竞争对手, 三星在 EUV 技术上是最积极的. 也就是三星直接跳过了第一代非 EUV 光刻的 7 纳米制程, 直接使用加入 EUV 技术的 7 纳米 LPP 制程, 并且预定在 2018 年下半年正式量产. 日前, 新斯科技与三星已经联合宣布, 三星使用的 7 纳米 LPP 制程技术完成了 IC 验证器的认证工作了.
在三星完成这次的认证之后, 三星的 7 纳米 LPP 制程就可以立即提供认证的技术资料, 包括 DRC 设计规则检查, LVS 布局与原理图, 金属填充技术档等等给予相关客户, 而这也意味着三星的 7 纳米 LPP 制程正式进入可以量产的阶段.
目前在 EUV 光刻技术竞争激烈下, 各家大厂抢 EUV 光刻机也成为重要经营项目之一. 根据之前的消息, ASML 的 EUV 光刻机中, 台积电订购了大约 10 台, 三星订购了大约 6 台, 英特尔订购了 3 台, 而格罗方德的EUV订单数量不详, 中芯国际也订购了 1 台 EUV 光刻机, 将用于 7 纳米制程技术研究上, 预计 2019 年初交货. 而就在各家厂商手中都握有 EUV 光刻机的情况下, 似乎未来在7纳米节点上要胜出, 就必须对比大家的最后的技术与管理能力了.