報告料全球半導體業設備支出將連續3年破頂

國際半導體產業協會發表報告, 預計全球半導體業設備支出將連續3年創新高, 今明兩年按年增長率分別為14%及9%. 若最終一如預測, 全球半導體業設備支出將連升4年, 為1990年代中期以來首次.

報告指, 中國及韓國帶領有關升勢, 其中韓國SK海力士增加設備開支, 但三星則會減少在韓國的相關投資. 中國方面, 今明兩年設備支出將分別按年增長65%及57%, 今明兩年將分別有58%及56%支出由外資包攬, 包括英特爾, SK海力士, 台積電, 三星及格羅方德(GLOBALFOUNDRIES)等.

日本今年的相關設備支出亦會增長60%, 主要來自東芝, 索尼, 瑞薩(Renesas)及美光(Micron).

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