报告料全球半导体业设备支出将连续3年破顶

国际半导体产业协会发表报告, 预计全球半导体业设备支出将连续3年创新高, 今明两年按年增长率分别为14%及9%. 若最终一如预测, 全球半导体业设备支出将连升4年, 为1990年代中期以来首次.

报告指, 中国及韩国带领有关升势, 其中韩国SK海力士增加设备开支, 但三星则会减少在韩国的相关投资. 中国方面, 今明两年设备支出将分别按年增长65%及57%, 今明两年将分别有58%及56%支出由外资包揽, 包括英特尔, SK海力士, 台积电, 三星及格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)等.

日本今年的相关设备支出亦会增长60%, 主要来自东芝, 索尼, 瑞萨(Renesas)及美光(Micron).