最近因為中興被美國政府制裁禁用美國電子晶片一事, 全國上上下下普及了一遍半導體技術, 也讓很多人明白了國產廠商在半導體領域原來這麼落後, 不僅下遊的晶片研發, 設計不行, 上遊的半導體裝備, 材料更是嚴重依賴進口.
好在這種局面正在改變, 晶片生產所需要的光刻機技術現在已經國產化了, 國內公司攻克了另一項中國芯關鍵技術.
大家聽多了光刻機, 蝕刻機以及nm工藝這樣的術語, 對光刻膠還是十分陌生的.
買回來的矽圓片經過檢查無破損後即可投入生產線上, 前期可能還有各種成膜工藝, 然後就進入到塗抹光刻膠環節. 微影光刻工藝是一種圖形影印技術, 也是整合電路製造工藝中一項關鍵工藝.
首先將光刻膠 (感光性樹脂) 滴在矽晶圓片上, 通過高速旋轉均勻塗抹成光刻膠薄膜, 並施加以適當的溫度固化光刻膠薄膜.
塗好了光刻膠才能進入光刻機進行曝光, 讓紫外線在光刻膠上生成掩膜中的電路圖, 必要的時候還要多重曝光, 反覆使用光刻膠, 因此沒有這一步電路是造不出來的.
光刻膠是一種對光線, 溫度, 濕度十分敏感的材料, 可以在光照後發生化學性質的改變, 這是整個工藝的基礎.
光刻膠有不同的類型, PMMA (聚甲基丙烯酸甲酯) , 聚甲基戊二醯亞胺 (PMGI) 以及DNQ (酚醛樹脂) 等材料都可以做光刻膠. 據有關資料顯示, 到2022年全球光刻膠市場市場價值將達到415億美元, 年複合增長率5.5%——算起來這個市場比光刻機產值還要大得多, 畢竟光刻膠是耗材.
目前光刻膠市場上的參與者多是來自於美國, 日本, 韓國等國家, 包括陶氏化學, 杜邦, 富士膠片, 信越化學, 住友化學, LG化學等等, 中國公司在光刻膠領域也缺少核心技術.
今天科技日報報道稱, 聖泉公司曆時26年研發的國產光刻膠—— '光刻膠用線性酚醛樹脂' 國產化成功, 打破了美國日本韓國等公司的壟斷.
聖泉公司現在已經是亞洲最大的酚醛樹脂公司, 技術來源於1997年聖泉與英國海沃斯礦物及化學品有限公司達成的合作, 引進了英國最先進的酚醛樹脂生產技術, 此後又引進了以原天津樹脂廠總工李乃寧高工為首的一系列研發骨幹.
2007年, 與中科院化學所合作成立了 '酚醛樹脂技術研究中心' , 引進並開發了包括火箭耐燒蝕材料在內的多個航天及軍工項目; 之後, 建成了博士工作站, 與多個院校開展了產學研合作; 2011年, 又引進了日本先進的環氧樹脂生產技術, 建成了國內最大的電子級特種環氧樹脂車間.
只是這篇報道除了明確國產光刻膠是酚醛樹脂類型之外, 具體的性能還不得而知. 不過從無到有實現突破之後, 未來就有了發展的本錢了, 國內很多企業都是這麼做起來的, 技術突破了就有參與競爭的機會, 不然連同台競技的資格都沒有, 何談追趕甚至超越呢.
