滿足10nm~ | 7nm製程 | 巴斯夫嘉興工廠電子級硫酸裝置投入運營

全球領先的化工公司巴斯夫5月30日宣布, 其位於浙江嘉興的新建電子級硫酸裝置正式投入運營, 將主要服務於國內日益增長的半導體製造行業. 據悉, 巴斯夫嘉興工廠一期可生產12000噸電子級硫酸, 今年年底投產的二期項目將使產能翻番. 據介紹, 在製程小於10納米時晶圓製造過程中需要經過數百道清洗工序, 巴斯夫嘉興工廠生產的電子級硫酸主要滿足10mm~7nm製程, 將主要用於此過程中半導體晶片的清潔. 這一裝置擁有先進的質量分析設備和配有專用無塵室的分析實驗室, 旨在滿足中國電子行業客戶的未來需求. 巴斯夫電子材料業務部亞太區副總裁言寧璿博士表示: '嘉興的新電子級硫酸裝置是巴斯夫在中國電子材料市場持續增長與拓展的又一重要舉措. 中國已成為全球最大電子材料市場之一, 而且還在不斷成長, 我們很高興能夠參與這一增長勢頭. 我們將更貼近客戶, 為他們提供更迅捷, 更高效的化學解決方案, 更可靠的供應和更穩定的品質. '

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