中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML買來一台EUV極紫外光刻機, 未來可用於生產7nm工藝晶片, 長江存儲也迎來了自己的第一台光刻機, 同樣來自ASML, 不過是193nm沉浸式, 用於產20-14nm工藝的3D NAND快閃記憶體晶圓, 7200萬美元一台.
據集微網報道, 5月21日上午, 在上海浦東新區康橋工業園南區, 華虹集團旗下上海華力整合電路製造有限公司建設和營運的12英寸先進生產線建設項目 ( '華虹六廠' ) 實現首台工藝設備光刻機搬入.
這台光刻機的型號是NXT 1980Di, 依然是荷蘭ASML提供, 後者官方顯示, 這是一台193nm雙級沉浸式光刻機, 用於10nm級 (14~20nm) 晶圓生產, 它也是大陸裝備的最先進的沉浸式光刻設備.
華力微電子官網資料顯示, 華虹六廠是該司的第二個12英寸晶圓生產線, 設計月產能4萬片, 工藝技術從28nm起步, 最終將具備14nm三圍工藝的高性能晶片生產能力.
另外, 根據賽迪顧問的統計, 按照銷售額, 上海華虹位列2017年國內十大整合電路製造企業第五位.
