中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机, 未来可用于生产7nm工艺芯片, 长江存储也迎来了自己的第一台光刻机, 同样来自ASML, 不过是193nm沉浸式, 用于产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆, 7200万美元一台.
据集微网报道, 5月21日上午, 在上海浦东新区康桥工业园南区, 华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目 ( '华虹六厂' ) 实现首台工艺设备光刻机搬入.
这台光刻机的型号是NXT 1980Di, 依然是荷兰ASML提供, 后者官方显示, 这是一台193nm双级沉浸式光刻机, 用于10nm级 (14~20nm) 晶圆生产, 它也是大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备.
华力微电子官网资料显示, 华虹六厂是该司的第二个12英寸晶圆生产线, 设计月产能4万片, 工艺技术从28nm起步, 最终将具备14nm三围工艺的高性能芯片生产能力.
另外, 根据赛迪顾问的统计, 按照销售额, 上海华虹位列2017年国内十大集成电路制造企业第五位.
