本文經超能網授權轉載, 其它媒體轉載請經超能網同意
最近一段時間, 英特爾公司因為10nm工藝難產的問題被推上了風口浪尖, 副總裁此前已經強調10nm工藝的問題只是良率問題, 正在解決, 而他們的14nm工藝依然有潛力可挖.
不過這並不能緩解市場對英特爾的焦慮, CEO科再奇今天在主持2018年股東大會時也被問到了這些問題, 他強調7nm工藝不會遇到10nm工藝的難產問題, 同時並不擔心AMD在7nm節點上領先, 他們的14nm工藝在2019年依然有優勢.
分析師關心最多的一個問題就是英特爾在10nm節點上的延遲是否會影響未來的7nm工藝, 對此英特爾CEO科再奇表示他們在10nm工藝上遇到的問題絕大多數都不會影響7nm進展, 因為10nm工藝是英特爾在沒有EUV光刻工藝情況下開發的, 而7nm將是英特爾首次使用EUV光刻工藝, 它能給晶圓製造帶來更多優勢, 比如製造小得多的晶體管, 這是他們的10nm與7nm工藝的第一個不同之處.
此外, 英特爾在7nm節點上也有不同的目標, 此前的文章中我們也提高過英特爾解釋為何10nm這麼難產的原因, 主要就是他們定的目標太高了, 相比14nm工藝的換算因素達到了2.7x, 所以在7nm節點上英特爾目標換算因素只有2.4x, 回到了之前的水平, 而業界通常的標準是1.5到2.
科贊奇表示目標降低之後, 7nm工藝帶來的挑戰就像他們傳統工藝創新一樣 (順利) , 因此英特爾公司在10nm節點遭遇的多數問題都不會重現在7nm節點上.
英特爾將繼續監視7nm工藝的進展, 並對他們的7nm工藝保持樂觀.
對於分析師擔心的AMD在7nm節點比英特爾更早量產而帶來的競爭優勢時, 英特爾CEO科再奇表達了他對該公司14nm工藝的絕對自信, 他認為英特爾的14nm工藝的性能還有很大改進餘地, 英特爾不僅會在客戶端領域, 在數據中心領域依然能保持領先.
科再奇表示他們對 (14nm性能領先) 非常自信, 2019年已經計劃推出更加激進的領先性產品, 同時他們也不會放棄在2019年繼續改進10nm良率的問題, 總之他對英特爾的路線圖感覺很滿意, 認為英特爾正在推出史上最好的路線圖之一.
