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今年英特尔, 台积电, 三星, Globalfoundries等半导体公司的制程工艺已经进化到了10nm, 7nm节点, 国产最先进的工艺依然是28nm工艺, 差距在三代以上.
国内半导体工艺为什么发展不起来? 很多人会说中国缺少先进的光刻机, 特别是EUV光刻机, 而不能引进的缘由是美国欧盟禁售EUV给中国. 这实际上也是一个流传多年的谣言了, EUV光刻机很快就要进入中国了, 日媒报道称中芯国际已经向ASML订购了一台EUV光刻机, 单价1.2亿美元 (编者注: 约合7.65亿元) , 预计明年初交付.
在半导体工艺进入10nm节点之后, 制造难度越来越大, 传统的193nm紫外光刻机也难以为继, EUV极紫外光刻机成为突破制程工艺的关键.
光刻机曾经也是日本佳能, 尼康公司的重要产品, 不过现在的高端光刻机已经被ASML垄断, 在EUV光刻机上更是独一份. 日经新闻亚洲版今天报道称, 中芯国际 (SMIC) 已经向ASML公司订购了一台EUV光刻机, 单价1.2亿美元, 预计在2019年初交付.
此前英特尔, 三星, 台积电以及GF都向ASML下了EUV订单, 其中台积电订购了大约10台, 三星订购了大约6台, 英特尔今年会引入3台EUV光刻机, GF也下了订单, 不过日经新闻没提到具体数量.
中国公司能买先进的光刻机? 很多人听到这个消息可能不太相信, 因为网上一直有传闻称中国公司因为瓦森那协定的关系一直被禁止采购先进光刻机. 对于这个问题, 网上有很多争议也有很多解答了, 日经新闻报道的中芯国际采购EUV光刻机其实也不是新闻了.
去年台媒电子时报采访过中ASML中国区总经理金泳璇, 后者辟谣称ASML光刻机并没有禁运问题, 该公司对所有客户都一视同仁, 不存在有钱买不到的问题. 他还透露了已经有中国客户洽谈购买EUV光刻机, 如果订单确认的话, 那么最快在2019年就会有EUV光刻机进入中国晶圆厂, ASML对此表示乐观.
两边对比的话, 这家中国公司就是中芯国际, 虽然该公司的14nm工艺要到2019年初才能量产, 不过国内有需求EUV光刻机的几乎只有他们了, 2017年中芯国际表示他们已经在预研7nm工艺了, 订购一台EUV光刻机做研究也是很正常的.
