宇瞻科技全球首款抗硫化記憶體模組取得多國專利

集微網消息, 工業環境中的硫化物質將使 DRAM 模組引發化學作用而產生硫化銀, 並降低傳導導致模組無法正常運作. 因此, 近幾年抗硫化記憶體模組一直是市場上關注的焦點.

據了解, 工控記憶體儲存大廠宇瞻科技 (Apacer) 開發的全球首款抗硫化記憶體模組, 已陸續於美國, 台灣, 中國取得專利. 同時, 宇瞻科技進一步拓展抗硫化產品布局, 擴大抗硫化技術應用至 DDR4, DDR3 工業用記憶體中. 截至目前, 宇瞻科技已獲得 232 項專利.

可以說, 宇瞻科技自發表專利抗硫化記憶體模組以來, 成功帶動工控市場對於硫化議題的重視. 宇瞻科技全新抗硫化記憶體不僅能有效解決環境汙染產生的硫化腐蝕現象, 提升系統整體使用壽命, 亦能滿足系統在惡劣環境下長時間穩定運作的需求, 確保產品可靠性與耐用度.

不同於一般標準型記憶體模組相對穩定的應用環境, 由於工業計算機常需於高溫或高汙染等環境下運作, 因此工控記憶體產品需因應各種不同特殊的應用環境予以客制化設計. 宇瞻藉由抗硫化技術強化記憶體模組抵抗高汙染環境下硫化腐蝕問題, 可大幅提升工業計算機整體系統之穩定性.

高汙染環境中濃度超標的懸浮微粒含有大量硫化氣體, 易與電阻中作為導體的電極層的銀材料化合產生絕緣體硫化銀, 導致電阻阻值增加, 甚至形成開路而失效, 尤以汽車電子, 基地台通訊等設備因常暴露於汙染大氣中, 出現硫化腐蝕現象影響更甚. 宇瞻全新抗硫化記憶體模組絕佳的抗硫化特色, 有效解決電阻硫化所產生的產品可靠度與耐用度問題.

隨著工業應用情境日趨複雜, 智能應用裝置多元化發展, 以及邊緣運算終端裝置崛起, 推動抗硫化記憶體模組從特殊應用躍居至市場主流, 成為從雲端到終端, 從資料中心, 伺服器到邊緣裝置的標準規格. 同時, 該趨勢也引發了記憶體模組市場的新一波成長動能.

據 IDC 預測, 2025 年全球數據領域中將有超過四分之一的數據為即時數據, 而即時數據又在邊緣運算裝置的成長過程中扮演著重要的角色.

宇瞻科技表示, 因邊緣運算裝置多位於條件嚴苛且複雜的應用環境中, 客戶對具備實質抗硫化效果的工業用記憶體模組需求也隨之增長, 從而帶動了抗硫化記憶體模組的採用率. 此外, IPC 產業領導廠商持續關注記憶體硫化問題, 深知記憶體硫化對工業電腦, 網通與伺服器產品可靠度及使用壽命的影響, 要求導入抗硫化記憶體模組, 藉此增進產品附加價值並創造差異化.

宇瞻科技從加速硫化實驗中發現, 一般記憶體模組於高溫, 高濃度含硫的環境中, 不到200小時就會開始出現硫化腐蝕情形, 造成故障問題. 宇瞻科技專利抗硫化記憶體採用特殊的合金材質來達到最高的抗硫化效果, 其元件均通過抗硫化ASTM B809-95測試規範, 於105度的高溫, 高濃度含硫環境下仍可穩定正常運作超過1000小時, 提升抗硫化耐用度高達5倍以上, 以實質確保產品可靠度與耐用度, 滿足系統長時間穩定運作之需求, 進而有效提升系統整體使用壽命.

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