SERIS研究人员开发出新型多晶硅织构技术以降低反射率

新加坡太阳能研究所的科学家们开发出一种新型湿化学方法, 能利用金刚石绳锯技术切割多晶硅片, 并随后织构以降低反射率.

新加坡国立大学SERIS的科学家们拿着采用其新型DWS工艺制造的电池和晶片

这一湿化学法以纳米特征尺度刻蚀晶片表面, 从而增加了光线反射表面的次数及被晶片材料吸收的机会. 该工艺使用专利性化学品, 具有低成本性和可扩展性, 且极易被集成入电池生产线.

SERIS认为, 相较于 '黑硅' 工艺, 其新工艺能给生产厂家提供更多的益处. 表示他们的技术 '更简单, 更价廉, 且无金属, 可以达到20%以上的电池效率' , 有潜力成为被多晶硅太阳能电池制造商广泛使用的主流织构技术.

据SERIS表示, 这一工艺已获得了几家一线厂商的认可. 该机构准备与这些厂家密切合作, 将其扩大到大型生产线.

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