石墨烯, 氮化硼, 過渡金屬硫族化合物等新型二維材料都屬於範德華晶體, 各自具有優良的力學, 電學, 光學性質, 是構築功能可控範德華異質結的基本單元, 也是組成下一代高性能光電器件的基礎材料. 範德華晶體具有層狀結構, 在層內由較強的共價鍵相互作用結合, 在層間由較弱的範德華力結合. 這一層狀結構決定了範德華晶體的各種物理性質具有天然的各向異性, 其中光學各向異性對於新型光電器件的設計和優化至關重要. 受制於目前製備高質量範德華單晶尺寸問題, 傳統的基於遠場光束反射的光學各向異性表徵方法 (如端面反射法, 橢偏法) 均難以準確測量範德華微晶體的光學各向異性.
戴慶團隊首先通過理論論證了在各向異性範德華納米片中存在尋常 (TE) 及非尋常波導 (TM) 模式, 且這兩種模式的面內波矢分別與範德華晶體的面內及面外介電常數相關; 隨後, 利用散射型掃描近場光學顯微鏡 (s-SNOM) 在範德華納米片中激發TE, TM波導模式, 並對其進行實空間近場光學成像; 最後, 通過對實空間近場光學映像的傅裡葉分析, 求得所測範德華晶體的光學各向異性. 以上方法克服了傳統表徵手段對樣品尺寸的限制, 能夠對單軸及雙軸範德華晶體材料的光學各向異性進行精準地表徵. 通過對基底材料的優化設計, 該方法同樣適用於少層甚至單層範德華晶體光學各向異性的直接表徵.
相關研究成果線上發表於《自然-通訊》, 其表徵方法已申請發明專利. 該研究得到了國家自然科學基金, 科技部重點研發計劃等項目的資助.
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國家納米中心等在晶體光學各向異性研究中獲進展