作為全球領先的工藝控制專家, KLA-Tencor針對整個半導體生產過程都有可以支援的產品, KLA-Tencor VP of Customer Engagement Mark Shirey表示: 'KLA-Tencor擁有完整的檢測和量測產品, 可以幫助客戶應對不同應用, 不同市場所面臨的挑戰, 如移動設備市場, 通常需要設備具有低功耗, 高可靠性以及更快的面世時間, 這使得生產過程中不能發生任何錯誤, 否則將導致產品良率低或延遲產品的上市時間. '
工藝複雜度不斷提升,良率控制在整個製程中非常關鍵
對於先進位程, 如7nm和5nm等設計節點, 晶片製造商想要找到產品上的疊對誤差, 線寬尺寸不均勻和易失效點 (Hotspots) 的明確起因將變得越來越困難. 對此, KLA-Tencor最近就推出了5款圖案成型控制系統, 主要針對7nm以下的邏輯和尖端記憶體設計節點設計, 以幫助晶片製造商實現多重曝光技術和EUV光刻所需的嚴格工藝寬容度.
據集微網了解, 這五款產品分別為ATL疊對良測系統和SpectraFilm™ F1薄膜量測系統, 他們可以針對FinFET, DRAM, 3D NAND和其他複雜器件結構的製造提供工藝表徵分析和偏移監控; Teron™ 640e光罩檢測產品系列和LMS IPRO7光罩疊對位準量測系統可以協助掩模廠開發和認證EUV和先進的光學光罩; 此外, 5D Analyzer® X1先進數據分析系統提供開放架構的基礎, 以支援晶圓廠量身定製分析和即時工藝控制的應用.
可以說, KLA-Tencor的產品線涵蓋了半導體製程的各個環節和技術節點. Mark Shirey表示: '這五款系統將為我們的客戶提供KLA-Tencor最尖端的技術, 幫助他們降低由每個晶圓, 光罩和工藝步驟所導致的圖案成型誤差, 從製程的源頭進行控制, 及早發現錯誤, 避免造成更大的損失. '
KLA-Tencor不斷加大在中國的投資, 並已上線其中文網站
隨著近幾年中國政府對發展半導體行業的大力投資, 中國的半導體行業呈現欣欣向榮的局面. 很多國際廠商也逐漸意識到中國市場的重要性, 紛紛投資中國市場. KLA-Tencor也不外如是, 也不斷加大在中國的投資. 目前, KLA-Tencor在中國已經設立了 10 處辦公室, 近期又擴展了其位於北京的辦公室, 希望能快速, 及時地響應本地客戶的需求, 解決他們的技術難題.
值得注意的是, KLA-Tencor近期還上線了其中文網站 (www.kla-tencor.cn) ,該網站將同步KLA-Tencor的美國網站, 定期更新各類最新的功能以及技術資訊, 以更好服務中國的客戶.
KLA-Tencor 中國區總裁張智安表示: '隨著中國半導體市場的加速發展, 它的地位也變得舉足輕重, 將來會是兵家必爭之地. 中國有很多對於我們很重要的客戶, 我們希望能與他們保持密切的合作關係, 為他們提供所需的技術支援和服務. 今後, 我們會持續投入中國市場. '他舉了一個例子, 如先進位程技術FD SOI, 是中國特有的且已經落地, KLA-Tencor 也能提供全套的技術支援.
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