作为全球领先的工艺控制专家, KLA-Tencor针对整个半导体生产过程都有可以支持的产品, KLA-Tencor VP of Customer Engagement Mark Shirey表示: 'KLA-Tencor拥有完整的检测和量测产品, 可以帮助客户应对不同应用, 不同市场所面临的挑战, 如移动设备市场, 通常需要设备具有低功耗, 高可靠性以及更快的面世时间, 这使得生产过程中不能发生任何错误, 否则将导致产品良率低或延迟产品的上市时间. '
工艺复杂度不断提升,良率控制在整个制程中非常关键
对于先进制程, 如7nm和5nm等设计节点, 芯片制造商想要找到产品上的叠对误差, 线宽尺寸不均匀和易失效点 (Hotspots) 的明确起因将变得越来越困难. 对此, KLA-Tencor最近就推出了5款图案成型控制系统, 主要针对7nm以下的逻辑和尖端内存设计节点设计, 以帮助芯片制造商实现多重曝光技术和EUV光刻所需的严格工艺宽容度.
据集微网了解, 这五款产品分别为ATL叠对良测系统和SpectraFilm™ F1薄膜量测系统, 他们可以针对FinFET, DRAM, 3D NAND和其他复杂器件结构的制造提供工艺表征分析和偏移监控; Teron™ 640e光罩检测产品系列和LMS IPRO7光罩叠对位准量测系统可以协助掩模厂开发和认证EUV和先进的光学光罩; 此外, 5D Analyzer® X1先进数据分析系统提供开放架构的基础, 以支持晶圆厂量身定制分析和实时工艺控制的应用.
可以说, KLA-Tencor的产品线涵盖了半导体制程的各个环节和技术节点. Mark Shirey表示: '这五款系统将为我们的客户提供KLA-Tencor最尖端的技术, 帮助他们降低由每个晶圆, 光罩和工艺步骤所导致的图案成型误差, 从制程的源头进行控制, 及早发现错误, 避免造成更大的损失. '
KLA-Tencor不断加大在中国的投资, 并已上线其中文网站
随着近几年中国政府对发展半导体行业的大力投资, 中国的半导体行业呈现欣欣向荣的局面. 很多国际厂商也逐渐意识到中国市场的重要性, 纷纷投资中国市场. KLA-Tencor也不外如是, 也不断加大在中国的投资. 目前, KLA-Tencor在中国已经设立了 10 处办公室, 近期又扩展了其位于北京的办公室, 希望能快速, 及时地响应本地客户的需求, 解决他们的技术难题.
值得注意的是, KLA-Tencor近期还上线了其中文网站 (www.kla-tencor.cn) ,该网站将同步KLA-Tencor的美国网站, 定期更新各类最新的功能以及技术信息, 以更好服务中国的客户.
KLA-Tencor 中国区总裁张智安表示: '随着中国半导体市场的加速发展, 它的地位也变得举足轻重, 将来会是兵家必争之地. 中国有很多对于我们很重要的客户, 我们希望能与他们保持密切的合作关系, 为他们提供所需的技术支持和服务. 今后, 我们会持续投入中国市场. '他举了一个例子, 如先进制程技术FD SOI, 是中国特有的且已经落地, KLA-Tencor 也能提供全套的技术支持.
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