La casa móvil iMobile, 18 de octubre, Samsung publicó una noticia de que su tecnología de proceso LPP de 7nm basada en tecnología EUV ha comenzado su producción, según los datos oficiales de Samsung, su proceso LPP de 7nm puede reducir el área de chips en un 40%, en las mismas condiciones Puede mejorar el rendimiento en un 20% o reducir el consumo de energía en un 50%. El modelo de máquina de litografía utilizado es la mesa de pieza doble NXE: 3400B (potencia de la fuente de luz 280 W), con una capacidad diaria de 1500 piezas.
Desde la perspectiva de la planificación del producto, el proceso ha madurado. Es probable que Samsung lance su primer SoC de proceso de 7 nm en 2019. Según las noticias anteriores, el chipset de banda base 5G de Qualcomm también adoptará el OEM de Samsung.
La casa móvil iMobile, noticias del 18 de octubre, Samsung publicó una noticia de que su tecnología de proceso LPP de 7 nm basada en la tecnología EUV (litografía ultravioleta extrema) ha comenzado la producción, según los datos oficiales de Samsung, su proceso LPP de 7 nm puede reducir efectivamente el área de chips. 40%, bajo las mismas condiciones, puede mejorar el rendimiento en un 20% o 50% de consumo de energía. El modelo de máquina de litografía utilizado es la mesa de pieza doble NXE: 3400B (potencia de la fuente de luz 280W), capacidad diaria de 1500 piezas.
Desde la perspectiva de la planificación del producto, el proceso ha madurado. Es probable que Samsung lance su primer SoC de proceso de 7 nm en 2019. Según las noticias anteriores, el chipset de banda base 5G de Qualcomm también adoptará el OEM de Samsung.