同时, NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度 (overlay) 最高的产品, 达到了和3400B一样的1.9nm (5nm要求执照2.4nm, 7nm要求至少3.5nm) . ASML将于本季度末开始量产Twinscan NXT:2000i, 价格未披露. 目前, NXE:3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台, 传统的ArF沉浸式光刻机 (14nm节点) 报价是7200万美元之间, NXT:2000i肯定是在这两者之间了.
最后简单介绍下ASML公司, 其脱胎于荷兰飞利浦的光刻研发小组, 2017年全球光刻机市场占比7成, 是绝对的一哥, 后面跟着的是佳能, 尼康和上海微电子.
集成电路在制作过程中经历材料制备, 掩膜, 光刻, 刻蚀, 清洗, 掺杂, 机械研磨等多个工序, 其中以光刻工序最为关键, 它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标, 即在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移.