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ASML लिथोग्राफी मशीनों शिपिंग नई NXT2000i: 7nm / 5nm DUV प्रक्रिया के लिए

विदेशी मीडिया ने रिपोर्ट दी, ASML लिथोग्राफी मशीन शिपिंग नई प्रमुख TWINSCAN NXT शुरू हो गया है: 2000i DUV (NXT: 2000i बिस workpiece चरण गहरी पराबैंगनी लिथोग्राफी मशीन), और 7nm 5nm नोड्स NXT के लिए इस्तेमाल किया जा सकता :. 2000i NXE हो जाएगा: 3400B प्रभावी पूरक लिथोग्राफी EUV मशीन, के बाद TSMC / GF 7nm DUV प्रक्रिया की पहली पीढ़ी पर आधारित हैं।

इस बीच, NXT: 2000i भी ASML के ओवरले सटीकता (ओवरले) उच्चतम उत्पाद बन गया है, और एक ही अंत ASML 3400B इस तिमाही राशि 1.9nm शुरू हो जाएगा तक पहुँचने (5nm आवश्यक लाइसेंस 2.4nm, 7nm कम से कम 3.5nm आवश्यकता है)। उत्पादन TWINSCAN NXT: 2000i, वर्तमान में अज्ञात मूल्य, NXE :. उद्धरण 3400B लिथोग्राफी EUV मशीन 120 मिलियन $ एक पारंपरिक एआरएफ विसर्जन लिथोग्राफी है (14nm नोड) प्रस्ताव 72 लाख $, NXT के बीच है: 2000i निश्चित रूप से के बीच में है।

अंत में, ASML का एक संक्षिप्त परिचय, फिलिप्स अपने अनुसंधान एवं लिथोग्राफी के डी टीम, लिथोग्राफी 70% 2017 वैश्विक बाजार में हिस्सेदारी से पैदा, बिल्कुल एक भाई, Canon, Nikon और शंघाई माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक द्वारा बाद में पीछा किया है।

एकीकृत परिपथ सामग्री तैयार करने, एक मुखौटा, photolithography, नक़्क़ाशी, सफाई, डोपिंग, उत्पादन प्रक्रिया, सबसे महत्वपूर्ण जिनमें से फोटोलिथोग्राफी प्रक्रिया है, यह एकीकृत परिपथ उद्योग उन्नत डिग्री के पूरे विनिर्माण प्रक्रिया है में यांत्रिक चमकाने कदम की अधिकता का सामना महत्वपूर्ण सूचकांक, जैसे कि, सिलिकॉन सब्सट्रेट करने के लिए स्थानांतरण पैटर्न के बीच चिप निर्माण की प्रक्रिया में मुखौटा पैटर्न।

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