همانطور که همه ما می دانیم، موتور هواپیما و ماشین لیتوگرافی نشان دهنده سطح بالای توسعه فن آوری از انسان، می توان آن را به عنوان یک جواهر درخشان در تاج از صنعت محسوب می شود. در حال حاضر، موتور حمل و نقل هوایی چین در حال حاضر ساخته شده است پیشرفت های قابل توجه، و سپس، دستگاه لیتوگرافی ما چیست؟ وضعیت این توسعه مورد ستایش قرار داد یک دوره جدید از بمب و یک ماهواره سطح مصنوع، کشور ما می تواند با اروپا و امریکا به طور خاص گرفتن، از آن رسانه های تکنولوژی اخیرا گفت: "چه کارت به گردن ما - این 'جزئیات؟ اجازه دهید چین بالا موارد سخت لیتوگرافی نگاه، من تجزیه آخرین تحولات لیتوگرافی. به اصطلاح چاپ، لیتوگرافی، در واقع، تقریبا مانند یک دوربین با توجه به اصل از اطلاعات عمومی، اما آن را در فیلم رنگ حساس به نور چسب (همچنین به عنوان مقاوم در برابر نور شناخته شده ) ویفر سیلیکون. میکروفیلم الگوهای مدار مختلف پیش بینی شده توسط قرار گرفتن در معرض لیزر به مقاوم در برابر نور، بخش در معرض از ویفر سیلیکون مقاوم در برابر نور واکنش به طور دائم روی ویفر سیلیکون که مرحله مهم ترین تولید تراشه حکاکی از آنجا لیتوگرافی را می توان در تراشه های بسته بندی نهایی، و تولید نمایش های صفحه تخت، استفاده می شود تا در اینجا به طور کلی لیتوگرافی به طور خاص به تولید لیتوگرافی مقابل تراشه اشاره دارد.
به عنوان فن آوری جلو لیتوگرافی بسیار پیچیده، پس از سال ها رقابت، در حال حاضر شرکت هلندی فیلیپس سابق توسعه یافته از ASML (ASML) یک شرکت غالب، بسیاری از سهم بازار را اشغال، دو شرکت لیتوگرافی ژاپنی ( نیکون و کانن) معطل، اساسا ترک بازار لیتوگرافی، حتی پیشرفته ترین ایالات متحده تنها نیست تولید کامل ماشین آلات جلو لیتوگرافی، تنها نیاز به کارشناسی کارشناسی ارشد فن آوری های کلیدی، و ASML (ASML) از شرکت کلید کنترل از سهام در برخی از نظرات که: "به عنوان فرآیند تولید مدار مجتمع، تجهیزات هسته ای لیتوگرافی انتقادی، سازندگان تراشه می خواهید برای بهبود تکنولوژی فرآیند، هرگز بدون آن، فرآیند های نیمه هادی چین چرا به افزایش است تا، لیتوگرافی ممنوع یک عامل مهم. در واقع، به عنوان اوایل سال 1971، Tsinghua دانشگاه گروه دانشگاه چین از ابزار دقیق با موفقیت توسعه 'لیزر موقعیت تداخل گام اتوماتیک و دوربین تکرار "است که در جلو پله است نمونه اولیه دستگاه آن زمان، و در حال حاضر غول ماشین لیتوگرافی ASML ساخته نشده است، می توان آن را با روش های لیتوگرافی در همان سطح در اروپا و امریکا پس از در 1980s گفت، به عنوان کشور کند به یک نیمه هادی
در قرن 21، چین دوباره راه اندازی R & D ماشین جلو لیتوگرافی و راه اندازی یک تحقیق و توسعه شرکت خاص - شانگهای ریز الکترونیک تجهیزات شرکت، آموزشی ویبولیتین (SMEE) بود شرکت های خارجی متکبر می گویند، "حتی نقاشی و ابرداده تمام دستگاه های شما، و شما آن را جمع آوری از '. شانگهای ریز الکترونیک تجهیزات شرکت، آموزشی ویبولیتین یکپارچه نوآوری، در نهایت توسعه اول 90 نانومتر بالا پایان لیتوگرافی طرح چین در سال 2007، تبدیل شدن به جهان چهارم به کارشناسی کارشناسی ارشد نور بالا پایان حکاکی شرکت های فن آوری و ماشین آلات. با توجه به افشای عمومی اطلاعات به دلیل استفاده گسترده از اجزای نمونه کلید خارجی برای یکپارچه سازی، پس از یادگیری از کشور ما یک لیتوگرافی توسعه یافته، شرکت های خارجی اجزای کلیدی تحریم ضمنی، نمونه کاملا بی فایده بود نمی تواند به تولید تجاری قرار داده است. این شرکت باید به سرمایه گذاری در توسعه محصول به مونتاژ کم فن آوری به عقب پایان و صفحه نمایش پانل دستگاه لیتوگرافی لیتوگرافی تخت و موفقیت 80٪ اشغال بسته بندی داخلی دستگاه لیتوگرافی از بازار برای حل شرکت زنده ماندن از بحران، اما مساله اصلی تولید تراشه در چین حل و فصل نشده.
اگر چه تعداد کالاهای غیر عشق گنج: چین جنگنده صادرات گرا چرا بیشتر و سخت تر برای پیدا کردن خریداران ژوئن 20 رئیس جمهور نیجریه، دولت نیجریه تخصیص بیل، 2018 نیروی هوایی نیجریه نه تنها بودجه مصوب برای خرید به پرداخت سه حفظ امضا کرده است؟ پس از 12790000000 NAIRA JF-17 جنگنده (در حدود 35 میلیون $) اقساطی، بودجه تجدید نظر نیز اضافی 170 میلیارد نایرا (حدود 47 میلیون $). این بدین معنی است که فراز و نشیب، Xiaolong تجربه جنگنده در نهایت یک کاربر دوم. شاید در دل هر کس چنین شک و تردید دارند، پس چرا F-7 خود را به فروش به خوبی، به نظر می رسد جنگنده صادرات به طور ناگهانی از طریق فهرست اوج پس از آن به سقوط همانطور که برای امروز، ما در واقع نیاز به موفقیت صادرات تنها سه هواپیما شادی این موضوع، "غلاف" ما نگران هستیم که کسانی که همه چیز صادرات جنگنده چینی (محتوای کامل شماره های عمومی جستجو میکرو کانال را مشاهده کنید: sinamilnews)؟
در مواجهه با چنین یک وضعیت دشوار، کشور ما دلسرد، دقت شانه فن آوری هسته ای ماشین جلو لیتوگرافی، ما تصمیم به راه اندازی یک علم و فن آوری همکاری ملی بزرگ، شدت در تحقیق و کرک سرمایه گذاری بیش از این دوره دشوار گرفت. اولین مانع سیستم لیتوگرافی نوری دستگاه قرار گرفتن در معرض، ده ها تن از قطعات از قابلمه بزرگ در لنزهای سری، اجزای کنترل دقیق نوری در عرض چند نانومتر، گروه های لنز ASML توسط تولید منحصر به فرد از ابزار زایس نوری آلمان تاسیس شد. این فن آوری تحقیقاتی مشترک شده توسط تولید کننده های ماهواره ای لنز سنجش از دور موسسه از چانگچون اپتیک و دقت مهندسی، دانشگاه ملی دفاع فناوری تیم های نوآوری نوری، و غیره، شده اند تعدادی از دستیابی به موفقیت منجر می شود. موفقیت توسعه لیتوگرافی طرح شامل اپتیک انحنادار از سیستم نوری قرار گرفتن در معرض، و در شانگهای ریز الکترونیک 90nm دستگاه لیتوگرافی برای دریافت ماشین برای دیدار با الزامات از محدودیت پردازش 85nm وضوح لیتوگرافی نتایج قرار گرفتن در معرض و کنترل کامل های 28nm لیتوگرافی غوطه وری و همچنین سطح بالاتر از سیستم قرار گرفتن در معرض لیتوگرافی نوری، حجم تولید گره 110nm KRF قرار گرفتن در معرض سیستم نوری، شایان ذکر است که طول موج کوتاه تر از سیستم ماورای بنفش شدید EUV طرح قرار گرفتن در معرض لیتوگرافی نوری موفقیت شکستن است، برای به دست آوردن قرار گرفتن در معرض لیتوگرافی EUV طرح مقاومت در برابر خط الگوی عرض 32 نانومتر است.
مانع دوم دستگاه لیزر منبع نور لیتوگرافی است، به گفته منابع غیر رسمی، شانگهای منبع نور میکرو الکترونیک لیتوگرافی چرا که هیچ تولید داخلی، ایجاد می شود شرکت های غربی می خفه تجاری نگه دارید. لیتوگرافی رادیواکتیو منبع نور لیزر نیاز به محدود وجود دارد عرض، انرژی بالا و فرکانس پالس بالا، این پارامترها متضاد، توسعه بسیار دشوار است، در حال حاضر، پس از ترکیب ادغام، یک شرکت ژاپنی تنها منابع تولید مستقل جهان، بقیه توسط شرکت ASML به دست آورد. آکادمی علوم و دیگر نوری من فرض تراز ARF لیزر رادیواکتیو کار منبع نور پس از توسعه، پس از نه سال تلاش، تکمیل شده است Guoneishoutai '65 نانو پله ARF قرار گرفتن در معرض اسکن دو مرحله منبع نور قطعه کار لیتوگرافی و غوطه وری '45 وظایف تولید نانومتر توسعه از منبع نور قرار گرفتن در معرض و وظیفه کوچک حجم ظرفیت تولید ساختمان. 20-40 وات و 90 نانومتر منبع ARF نور قرار گرفتن در معرض لیتوگرافی برای کارهای تولید انبوه. مانع سوم دستگاه لیتوگرافی مرحله قطعه کار، طراحی گرافیک برای تولید ویفر سیلیکون است در، و میلیاردها ترانزیستور را می توان در 2 تا 3 اینچ سانتی متر از زمین، مرحله ویفر با سرعت بالا مورد نیاز برای رسیدن به 2nm یکپارچه (مربوط به قطر سه مو شدید
رئيس جمهور از کمپانی نیکون ژاپن به بازدید کشور ما زمانی که او گفت چنین حکم: "سیستم نوری لیتوگرافی گرچه دشوار است اما، من معتقدم که شما می توانید آن را توسعه، اما (دو برابر) جدول قطعه کار Nabuxialai من می ترسم، چرا که این سیستم بیش از حد از طریق تلاش های تحقیقات ما پیچیده است. "دانشگاه Tsinghua و واحد های دیگر، نه تنها به ایستگاه کار برای پاسخگویی به نیازهای لیتوگرافی 90nm، برای 28-65 لیتوگرافی نانومتر حمایت از ایستگاه کار دوگانه نیز توسعه داده شده، ساخت چین تبدیل قطعه کار دوم توسعه دولت دستگاه لیتوگرافی مرحله دو جهان است. مانع چهارم یک سیستم لیتوگرافی غوطه ور است، به روند 65 نانومتر، سیستم های نوری قرار گرفتن در معرض می تواند نیازهای، نیاز جدی به فن آوری های جدید برآورده نمی کنند. هنر TSMC، مورد مطالعه قرار گرفت با استفاده از آب به عنوان یک لنز، پرتو لیزر انتقال از طریق «آب» به عنوان یک واسطه، کوتاه به یک طول موج کوتاه تر، و در همکاری با در ASML، 45nm توسعه ماشین غوطه وری لیتوگرافی. اختراع این است که اصلی 193 نانومتر لیتوگرافی همچنان به گسترش حداقل فرآیندهای تراشه تا 7/14 نانومتر، TSMC و ASML برای تبدیل شدن به شرکت های پیشرو در زمینه های مربوطه.
پس از سالها تحقیق از دانشگاه ژجیانگ، توسعه یک سیستم کنترل غوطه وری نمونه، به ارائه پشتیبانی فنی برای توسعه دستگاه غوطه ور لیتوگرافی در چین است. این پروژه توسعه موفقیت آمیز از لیتوگرافی داخلی ترویج دستخوش تغییرات کانن و نیکون ماشین آلات چاپ، لیتوگرافی، تبدیل جهان دوم تولید کننده دستگاه لیتوگرافی. با توسعه موفق از این چهار فن آوری های کلیدی، شرکت ASML حال به برقراری مجدد مشارکت شانگهای ریز الکترونیک و ادعا کرد، هرگز برای چین به نام به فروش لیتوگرافی پیشرفته ترین ، تحریم، آماده است تا صادرات کشور لیتوگرافی پیشرفته ترین، به اعتقاد من، به کشور ما 5/8 سال، کشور ما در فن آوری میکرون ایستاده، موقعیت تکنولوژی پیشرو در جهان، پس از آن، صنعت تراشه چین در یساولی سپیده دم.