AMECは、国家集積回路産業ファンド（大ファンドが）に投資する最初の会社の後に設立されました。2017年1月に米国大統領技術に関する専門家の連合委員会（PCAST）の状態は、「半導体業界の長期米国のリーダーシップを確保するために」をリリースレポート、分析チップの設計、製造、設備、材料及び集積回路パッケージング産業中国、32ページの報告書で、中国の会社名は、マイクロ（AMEC）の唯一の言及です。
'国内機器産業の大邸宅'陰Zhiwei、起業家の歴史と '中国の半導体の父親'張Yujingは非常に似ています
創設者としての半導体マイクロの一つは、博士Yinzhi八尾マイクロは現在、起業の過程で国内の半導体製造装置業界の会長となり、SMICの創設者リチャード・チャンは非常によく似たバックグラウンドを持っています。
台湾から世界集積回路（WSMC）の作成にテキサス・インスツルメンツ・チャンが、また、SMIC上海の作成に、Yinzhiヤオはミクロに上海に設立された米国企業の退職アプライドマテリアルから60歳であるが、一方で、過去11年間で国際企業が正常に出て戦争に法的手続きから3回のターンでは、半導体の歴史の中国の伝説を打ちました。
数日前にDT Yinzhi八尾6月の独占インタビュー、中国の半導体製造装置技術の優秀さの業績への寄与は、彼はまだ謙虚な洗練された文体であっても。
インタビューの初めに、彼の「咐咐」DT Junの最初の文章は他にはありませんでした。このインタビューはあまりにも個人的な行為であってはならないことを願っています。 15人は、それは一緒にすべての作業で、これまでのところ、など、マイクロ成功、今日のグローバルなビジネス朱Xinping、杜の水泳の上級副社長、ニッケルの副社長の副社長を含め、会社のすべての重要なバックボーンであり、国の強化があります。
Yinzhiヤオはまた、業界はマイクロ技術の開発と商業の競争に従事していることを強調しすぎてレンダリングを行うには、政治的、戦略的な高さを上げたくありません。
しかし、読者が陰Zhizhenの人生の物語を知っている場合、彼は彼のキャリア、起業家のプロセス、なぜ中国の半導体産業の発展に無視できない重要な基準の一つであるかを理解することができます。
半導体の開発は旅行、資本、才能のようなもので、政策は不可欠です
近年、チップ業界は幕を閉じていますが、中国の半導体業界は長い間発展してきたと言われていますが、今年は「巻き返し」の一年です。
Yinzhi八尾は真剣に中国の半導体業界は依然として非常に弱いことを指摘し、最大の矛盾が非対称の競争で、中国企業の規模は、外国人のR＆D投資は2〜10分の1で、海外メーカーの10分の1に20分の1でありますこの非対称競争力のある風景の中にその10分の1、それはどのように成長することができますか？
Yin Zhiyu氏は、半導体チップ産業の発展を旅行のように説明しました。丁氏には、資本、才能、政策の3つの脚があり、3つの足が強くバランスが取れている限り、業界の三脚は成功裡に立ち上げられます。フロッキングの状況は非常に良いと思われるが、資金が大きく、才能が不十分であり、産業発展を促進する政策がさらに改善され、アップグレードされる必要があるという3つの重大な不均衡がある。
この資金はチップ製造に集中しており、総投資額の90％以上を占めていますが、設備や材料がチップ製造工場の80％を占め、投資のシェアは5％未満であり、深刻な不均衡です。
SEMIの統計によると、2017年に中国は世界で3番目にランク付け、世界の半導体売上高の15％を占め、2019年に世界で二番目に登ると予想、しかし、中国国内のIC機器自家製率が5％未満である、まだ巨人の間で苦労していますさ。
もう一つの問題は、ほとんどすべての資金のは、自己資本を投資しているということですが、長期の低金利ローンや資金調達のR＆Dプロジェクトの欠如、チップの生産ラインでの純粋な自己資本投資は、期待リターンを達成することはできません。
政策面では、所得税、輸出入、労働法、産業連鎖地域化、従業員オプションインセンティブ、IPO上場政策の調整が必要であり、多くの関連政策は改革の早期段階から開放され、技術導入を促進する。 、処理の準備、そして今や完全に再検討されるべきである。
Yin Zhiwei氏は、これらの3つの不均衡が迅速に解消されれば、国内の半導体チップ業界は高速で健康とバランスをとると強調した。
半導体の主要設備は「リソグラフィー」だけでなく、7ナノメートル以下の「プラズマエッチング装置」の需要も急速に拡大しています。
マイクロ・セミコンダクターは、チップの製造において最も重要な装置である：プラズマエッチング装置および化学的フィルム装置の供給業者である。
1950年代の128Kチューブコンピュータから1980年代の128Kメモリデバイス、2015年の128Gフラッシュメモリまで、半導体産業の進化を観察すると、人間の微細加工能力は1兆分の1に縮小しました。 50年前の今日の携帯電話を返すと、それはチューブで満たされた200万の5階建ての建物に相当します。
微細加工能力を実現するための鍵は、チップ製造プロセスにおける熱プロセス、リソグラフィー、プラズマエッチング（Etch）、化学気相成長（CVD）、物理的スパッタリングのほぼ10の主要プロセスから得られます。膜（PVD）、イオン注入（イオンインプラント）、化学機械研磨（CMP）、洗浄などが挙げられる。これらのプログラムは、拡散炉のための装置に属する、リソグラフィー、プラズマエッチング装置、化学蒸着装置、物理的なスパッタリング装置、イオン注入機、化学研磨機および洗濯機。
ほとんどの人は、半導体装置を述べたように、最初に考えたのリソグラフィがある、それはすべての問題を製造するチップが解決され、リソグラフィに思える。しかし、誰もが知っている、道路のチップ製造プロセスの数千人と非常に複雑な、唯一のリソグラフィマシンは、の生産を完了することができませんウェーハ。
チップ製造において、最も重要な手順の三つのリソグラフィー、プラズマエッチング、化学蒸着がされている、プロセスは最大出力値の拡張のうちのウェハ製造、装置のサイクルを繰り返す。場合困難で、リソグラフィ技術は技術的に最も困難なデバイスであり、プラズマエッチングの難しさは何千ものプロセスを開発することの難しさから来ています。
14nmで、ダブル（ダブルパターニング）露光技術、統合された設計と大量で膜をエッチングするための需要が、小さい幅の要件を満たすために、この傾向にテンプレートを必要と10nmの構造に半導体プロセス技術これは、エッチング機械と化学膜の組み合わせをチップ製造プロセスにおいてより重要なステップにする。
さらに、2D NANDの3D NANDへの進化により、リソグラフィの需要が減少し、エッチングおよび化学膜の需要が増加し、これらの2つのデバイスが市場で最も急速に成長しています。このうち、プラズマエッチングは設備投資全体の22％を占め、正式にリソグラフィー装置を上回っています。
中国の寓話の寓話は、外国人企業が残りの人生と結婚するのを助けるために陰Zhizhenが不本意になります。
Yin Zhizhen氏は、中華人民共和国の半導体産業のための独立した技術設備を建設する過程について語ると、業界に参入し、市場セグメンテーションオプションを選択することが重要であると考えています。 70億ドル、2025年には150億ドルに達すると予想されています。市場をうまくとれば、中国と米国の成長は当然増加し続けます。
現在、China Microは、米国Applied Materials社、Lam Research社、日本のTEL外資系企業によるエッチング装置市場の障壁を打破し、世界のトップ5社に浸透し、TSMC、インテル、UMCなど多くの海外顧客に参入しています。 Huali、Yangtze River Storage、Bosch、STMicroelectronicsなどの40の生産ラインが含まれます。
Yinzhiヤオは、研究炉や米国での中国科学院は、博士号を取得した後、インテルで働いている石油化学と触媒と工業生産に従事し、米国に1980年前の50年のための物理化学リアクターの分野に取り組んでいますPan-Ran開発、アプライドマテリアルズおよびその他の国際半導体メーカが含まれます。
14年前、「Weirenzuojia」感じアジアの半導体は、急速に中国に大きな変更を開発しアプライドマテリアル中国Yinzhiヤオは座席がファブ生まれて見えたから、心が人生を学ぶために不本意で引退その数十人以上が中国に戻り、新興の中国のIC業界に貢献することを決意しています。
大きなクジラに小さなエビ、3つの国際的な大きな工場の特許、大きなナイフはすべての奇跡をカット
中国の半導体産業におけるマイクロ伝説は、だけでなく、奇跡的に両方から、大きな剣を顔で「エビ」の姿勢で、14年前に、3回の特許侵害訴訟の「クジラ」を事業の主要技術の独占を破ります能動的に受動的位置にされて、凡例です。
バック2007年時には、その年だけで開発されたマイクロエッチング装置では、最も先進的なファウンドリの生産ラインに入ろうとしたら、彼の元クラブは、米国連邦裁判所ので、窃盗の疑いのある材料をものとみなします訴えます。
Zhongweiは、無実を証明するために、米国で第一級の知的財産訴訟弁護士を雇い、600万件を超える文書と30以上のコンピュータと文書を徹底的に調査するのに2年半かかりました。材料の図面、技術データ、企業秘密、訴訟は最終的に和解しました。
この歴史について、そして後にインターネットで、陰Zhizhenは特に、オンラインと彼の同僚が同じ年に米国から中国に戻ったことを強調した6月、コンピュータは米国当局によって検査され、すべての600万の文書は没収された。虚偽の報告のレンダリングは、不必要に他のレベルにビジネス競争を起こす副作用です。
ZhongweiとYingcaiの訴訟が解決されないうちに、別のアメリカの競争相手：FanlinのR＆DがChina Microに回った。
マイクロに対する台湾の特許侵害訴訟で2009年にFanlin R＆D。Yinzhi八尾は同社が研究に設立された時に言った互いの特許、特許の対戦相手は、マイクロデザインは同じ有効でない場合であっても、特許が無効であることを確認しましたまた、その特許を侵害しなかった。
訴訟だけより8ヶ月後、最初のインスタンスでの勝利へのマイクロは、他の4つは、控訴裁判所によって拒否された。このプロセスでは、マイクロは、他の技術文書は、機密性の高いマイクロを盗むためにすることがより決定的な証拠をつかみますそして上海の裁判所に訴訟の最終的勝利を伝えた。
3回目の特許訴訟は激しくなり、中華産の製品は禁輸された。
第三得点後継ナイフ侵害訴訟ながら、2017年にはニューヨークMOCVDグラファイトトレーサプライヤーに連邦地方裁判所に機器メーカーVeeco社のスーのLED、被告-歳の子供に、あなたはマイクロ起業家のプロセスを知ることができ、ここにすべての方法を参照してください。中偉に供給されたグラファイトパレットは、Veecoの特許を侵害し、Zhongweiは直ちに対抗措置を取って、中国特許庁およびその他の国の特許権をVeecoの特許に対して反撃した。
グラファイトディスクは消耗品ですので、しかし、米国の裁判所で、この、まだ、米国はグラファイトトレー上の最初の出荷禁止に発表したマイクロデザイン権侵害かどうか、Veeco社の特許が有効で保留されているので、マイクロは電源を得ることができませんこの変化は、中型マイクロMOCVD装置を使用したLED顧客の生産をほぼ停止した。
Veeco社の特許の認可を申請したマイクロ後福建省、禁止を実装するVeeco社MOCVD装置の出荷台数の中国の輸入の最後の福建省高等裁判所で無効と訴えたVeeco社トレイロックデザイン権侵害裁判で、一連のアクションは、Veeco社は妥協をしなければなりませんでした中国マイクロとの和解交渉に加えて、関連訴訟の取り消しに加えて、黒鉛パレット特許をChina Microと共有することに合意した。
家庭用MOCVD装置の市場シェア70％、国内機器のもう一つの奇跡
MOCVD装置の開発に関しては、国内市場シェアへの大量生産が何千人もの兵士を掃討し、中国と米国のもう一つの誇りです。
2009年には、ブルーが世界市場を急いでブームをLED、政府補助金の多数は、LED生産ラインの設立を奨励し、企業をLEDドイツの二つの主要な外国人の手の米国ビーコとAixtron社におけるMOCVD装置市場の完全な把握しました。
2009年と2010年の間に、中国は、あなたが乗って、少なくとも25の開発を始めているの熱意のこの波を、ジャンプしたい計画のMOCVD装置を開発する54社の企業や研究機関にまで持っていますが、7年後、実際の量Zhongwei家族だけが生産されます。
2016年以来、チャイナマイクロは、もともと米国とドイツが管理していた業界を置き換え、わずか18ヶ月で中国のMOCVD装置市場に70％以上を費やし、素晴らしい勝利を収めました。
どのように創造の奇跡はある？Yinzhi八尾たちは、半導体技術の最高レベルでMOCVD機械を行い、そして行っているマイクロ-CVDでの製品と技術は、「プロトタイプ」を作ることができ、他の企業に非常に似ている、と述べたが、唯一のプロトタイプデバイス開発の20％を完了します。
3つの国際マイクロ侵害訴訟に巻き込まれた企業、時間と出て、ステップバイステップでは、より強力なベトナム戦争、Yinzhiヤオは真剣に知的財産権の重要性を強調しました。
グローバルビジネスを行うためには、国内法を尊重し、知的財産権を尊重する必要があります。
彼の初期の年で非常に深刻なされている、アメリカの大企業で働くすべてのキャリアの移行を扱い、絶対に任意の特許を侵害していないだろう、新会社にすべての情報を携帯していない、これはまた、彼は、集積回路と強調したマイクロに参加するすべての従業員が必要ですこの業界は、制裁は違法であるならば、我々は政治的レベルにこれを誇張していることができない、米国はグローバルビジネスを行うために、法律を遵守しなければならない、中国に従わなければならない入力するように、国際的な産業です。
Yinzhiヤオは中国の人々がいる限りの努力をについて説明するように、集積回路の特定の才能を持っていますが、プロセスは追加の背後にある知的財産権を大いに尊敬、何十年もダウン産業の発展、前にあった以前の研究のR＆D成果の多くは、でなければならないと考えています前任者から学ばなくても、他人の知的財産権を尊重したり、迂回したり、ロイヤルティを支払う必要があります。
2012年に始まり、マイクロ過去6年間の年間収益成長率は、マイクロ将来の期待のために50％以上が、Yinzhiヤオはその2028年に期待を表明し、過去2年間で、上下35％の年間収益成長率を維持しています収入100億元に達し、それは規模で国際的なプロセス機器企業の上位5企業に入った。
Yin Zhiweiは、集積回路はグローバル化された産業であり、単一の国によって独占された産業に変えることはできないと強調しています。集積回路産業の台頭は、日本、韓国、台湾の発展の後に起こるだろう。誰もこの傾向を止めることはできない。
中国のIC産業の離陸は歴史的な必需品であり、力を止めることはできないという傾向ですが、これは国際的な産業であり、開かれていて、人のようにはならないものでなければなりません。業界の健全な発展を守るためには、知的財産権に細心の注意を払う必要があります。このようにして、中国の集積回路業界は真に国際市場とつながり、世界の先進レベルに追いつくことができます。