Synopsys Custom Design Platform offre design personalizzato per la tecnologia di processo Samsung 7LPP

Synopsys ha annunciato che piattaforma di progettazione Synopsys su misura è stata certificata con successo da Samsung Electronics, la tecnologia 7nm Samsung può essere utilizzata LPP (Low Power +). Processo Samsung 7LPP è la sua estrema ultravioletti primo utilizzo (EUV) processo di litografia di semiconduttori La tecnologia, rispetto al FinFET da 10nm, può ridurre notevolmente la complessità e offrire un rendimento più elevato e tempi di produzione più rapidi.Micropunti di progettazione personalizzati di Synopsys sono stati aggiornati per i requisiti relativi a Samsung 7LPP. Inoltre, Samsung fornirà anche Synopsys 'Process Design Kit (PDK) e flusso di riferimento del design personalizzato.

Synopsys piattaforma di progettazione su misura ha superato la certificazione della tecnologia Samsung 7LPP. La piattaforma personalizzata compilatore design personalizzato e ambiente di layout come il nucleo, e comprendente HSPICE, FineSim SPICE e la simulazione del circuito CustomSim FastSPICE, StarRC l'estrazione parassitarie e IC Validator verifica fisica. Per supportare la progettazione 7LPP personalizzato efficiente, Synopsys e Samsung per lo sviluppo congiunto di un flusso di riferimento, che contiene una serie di istruzioni che descrivono i requisiti fondamentali di progettazione e il layout 7nm. questi esempi illustrano i dati e le fasi tipiche attività di progettazione e layout comprendono progettazione, argomenti trattati comprendono regola elettrica controllo, simulazione di circuiti, la simulazione mixed-signal, analisi Monte Carlo, il layout, l'analisi parassiti, e elettromigrazione.

Per superare la certificazione Samsung, Synopsys ha ottimizzato gli strumenti per soddisfare i severi requisiti dei progetti a 7 nm, tra cui: • Modellazione accurata dei dispositivi FinFET e effetti dell'invecchiamento del dispositivo • Simulazione Monte Carlo avanzata per un'analisi efficiente • Simulazione del rumore transiente ad alte prestazioni per progettazione analogica e RF • Simulazione post-layout ad alte prestazioni per la progettazione e simulazione di sensori parassiti • ERC a circuito dinamico per il controllo della tensione del dispositivo • Analisi EM / IR a livello transistor ad alte prestazioni, massimizzando Riduzione del sovradimensionamento • Edificazione simbolica efficiente degli array di dispositivi FinFET • Supporto EUV • Basato sulla copertura tramite estrazione di resistenza

Ryan Sanghyun Lee, vicepresidente del Samsung Marketing Team, ha dichiarato: "La nostra cooperazione nel design personalizzato con Synopsys è cresciuta significativamente negli ultimi due anni e grazie a questa collaborazione abbiamo aggiunto il supporto Synopsys Custom Design Platform per il processo 7LPP. , compreso il flusso di riferimento del design personalizzato basato sugli strumenti di Synopsys. '

Bijan Kiani, vice presidente del marketing di prodotto Synopsys, ha detto: 'Abbiamo lavorato a stretto contatto con Samsung per semplificare l'utilizzo di FinFET tecnologia di processo di progettazione su misura lanciamo uno strumenti di certificazione, flussi di riferimento, PDK, modelli di simulazione ed eseguire il setup per aiutare i clienti Samsung. Possibilità di utilizzare il processo 7LPP per progetti personalizzati affidabili. '