Synopsys Custom Design Platform fournit une conception personnalisée pour la technologie de processus Samsung 7LPP

Synopsys annonce que la plate-forme Custom Design a été certifiée avec succès par Samsung Electronics pour le processus LPP (Low Power +) 7nm de Samsung.Le procédé Samsung 7LPP est le premier procédé semi-conducteur à utiliser la lithographie ultraviolette extrême (EUV). La technologie, comparée à FinFET 10nm, peut réduire considérablement la complexité et fournir un rendement plus élevé et un temps d'exécution plus rapide.Les outils de conception personnalisés de Synopsys ont été mis à jour pour les exigences liées à Samsung 7LPP. Kit de conception de processus (PDK) de Synopsys et flux de référence de conception personnalisée.

Synopsys Custom Design Plate-forme a passé la certification de la technologie Samsung 7LPP. La plate-forme environnement de conception et de mise en page personnalisée compilateur personnalisé comme le noyau, et notamment HSPICE, FineSim et SPICE simulation de circuit CustomSim FastSPICE, extraction parasite StarRC et IC Validator vérification physique. Pour soutien efficace conception personnalisée 7LPP, Synopsys et Samsung pour développer conjointement un flux de référence, qui contient un ensemble d'instructions décrivant les exigences clés de la conception et la mise en page 7 nm. ces exemples illustrent les données de conception et les étapes des tâches de conception et de mise en page typiques comprennent, les sujets abordés comprennent la règle électrique de contrôle, la simulation de circuit, simulation signal mixte, analyse Monte Carlo, mise en page, l'analyse des parasites, et électromigration.

Afin de passer la certification Samsung, Synopsys a optimisé les outils pour répondre aux exigences strictes des conceptions 7nm, notamment: • La modélisation précise des appareils FinFET et les effets du vieillissement des appareils • La simulation Monte Carlo avancée pour une analyse efficace • Simulation de bruit transitoire haute performance pour la conception analogique et RF • Simulation post-implantation haute performance pour la conception et la simulation de détection parasite • Circuit dynamique ERC pour la vérification de la tension de l'appareil • Analyse EM / IR haute performance Réduire la sur-conception • Édition symbolique efficace des baies de périphériques FinFET • Prise en charge de l'EUV • Extraction de résistance par recouvrement

Ryan Sanghyun Lee, vice-président de Samsung Marketing Team, a déclaré: «Notre coopération avec Synopsys a considérablement augmenté au cours des deux dernières années grâce à la collaboration de Synopsys Custom Design Platform pour le processus 7LPP. , y compris le flux de référence de conception personnalisée basé sur les outils Synopsys. '

«Nous avons travaillé en étroite collaboration avec Samsung pour simplifier la conception personnalisée à l'aide de la technologie de processus FinFET, nous avons établi des partenariats avec des outils de certification, des processus de référence, des PDK, des modèles de simulation et des ensembles de fonctionnement. Possibilité d'utiliser le processus 7LPP pour des conceptions personnalisées fiables.

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