Samsung e ARM processo de otimização 7nm chip e 5 nm

Samsung LPP processo 7 nm vai produção inicialmente em massa no segundo semestre de 2018, o primeiro extremo tecnologia EUV ultravioleta litografia uso de propriedade intelectual a ser estudada, é esperado no primeiro semestre de 2019 para sair oficialmente. Samsung próximo processo de fabricação de 5 nanômetros coloca LPE 7 nm EUV Melhorias na tecnologia de processo, resultando em uma área central menor e menor consumo de energia.

Samsung para recuperar o atraso com a TSMC, tecnologia de importação EUV na primeira geração de 7 nanômetros (LPP) processo de fabricação. No entanto, TSMC é também luzes eficientes não-combustível, além da distribuição de ativos de tecnologia de processo 7 nanômetros no início de 2018 anunciou o lançamento de cinco nanômetros no parque plano de construção, colocar em pesquisa processo de 5 nanômetros e desenvolvimento. Portanto, a fim de reduzir o fosso entre a Samsung e TSMC, 5 oficialmente anunciado para se juntar à propriedade intelectual braço gigante (ARM), o acordo vai otimizar ainda mais 7 nm e 5 chips processo nm .

ARM também publicado antes Samsung 7 nanômetros e 5 nanômetros LPP processo processo LPE baseados na física IP Artisan, arquitetura lógica compreende um de alta resolução, compiladores de memória abrangente suite, 1.8V e 3.3V da saída de entrada universal (GPIO) bibliotecas além disso, Samsung LPP 7 nm e processo de processo de LPE 5 nm, a tecnologia pode alcançar o processador ARM otimizado, eo tempo mais rápido ao mercado.