وقال ريان Sanghyun لي، نائب رئيس شركة سامسونج للإلكترونيات من فريق التسويق OEM: "من خلال التعاون معمقة مع سينوبسيس، سيكون لدينا تدفق شهادة والمرجعية في عملية 7LPP تحقيق استهلاك أقل قوة، وأفضل أداء في تصميم عملائنا المشتركين ومن خلال استخدام منصة تصميم سينوبسيس ، التي أثبتت ثباتها وتكاملها مع تقنية فيوجن ، يمكن لعملائنا في مجال السبك أن يستخدموا بكل ثقة عملية سينوبسيس الأكثر تطوراً في مجال تكنولوجيا المعلومات والاتصالات لإنتاج تصاميمهم.
وقال نائب رئيس سينوبسيس مايكل قسم جاكسون التسويق وتطوير الأعمال تقنية والتصميم: "نحن نعمل مع أدوات سامسونج وتدفقات إشارة التعاون يركز على تمكين المصممين لاستخدام عملية فوق البنفسجي 7LPP الجديدة من سامسونج للحصول على أفضل جودة على أعلى النتائج الثقة باستخدام نظام Synopsys Design Platform مع تقنية Fusion المدمجة ، سيمكِّن التدفق المرجعي القابل للتدرج ذو 7LPP المصممين من تحقيق أهداف التصميم والأهداف المرغوبة بسهولة.
يستخدم معالج 64-bit Arm Cortex-A53 المبني على بنية ARMv8 لجودة نتائج (QoR) والتحقق من العملية.وتشمل الأدوات والميزات الأساسية لعملية مرجعية Synopsys Design Platform 7LPP:
IC Compiler II تخطيط وتوجيه: EUV يعتمد على شبكة أسلاك مفردة مع دعم لقاعدة تصميم 7LPP ، وثقب ثقب لضمان أقصى قدر من إمكانية التصميم والتطبيق مع تقليل انخفاض الجهد.
تصميم مجمع المترجم RTL التجميعي: الارتباط مع نتائج المكان والمسار ، انخفاض الازدحام ، دعم قواعد تصميم 7LPP الأمثل ، والإرشاد المادي إلى IC Compiler II.
مفعول المصادقة الإلكترونية لـ IC Validator: تسجيل دخول DRC عالي الأداء ، جهاز اكتشاف قصير LVS إدراكي ، حشوة تسجيل الدخول ، مطابقة الأنماط وتحليل بيانات Dirty الفريد مع تقنية Explorer ، والتحقق في التصميم مع الإصلاح التلقائي DRC وفي IC Compiler II الشعور بدقة توقيت ملء المعادن.
توقع توقيت PrimeTime: نموذج تنويع الجهد المنخفض للغاية عند الحد الأدنى ، من خلال إرشادات تغيير النمذجة وترتيب التغيير الهندسي (ECO) لقواعد التخطيط الإدراكي.
استخراج الطفيلية StarRCTM: يعتمد مصطلح EUV على دعم توجيه وضع التعرض الفردي ، بالإضافة إلى تقنيات الاستخراج الجديدة مثل التغطية القائمة على المقاومة.
RedHawkTM Analysis Fusion: ANSYS® RedHawkTM يحرك تحليل EM / IR والتحسين في IC Compiler II ، بما في ذلك عبر الإدراج وتضخيم الشبكة.
اختبار DFTMAXTM و TetraMAX® II: يعتمد على اختبار التحويل من FinFET واختبار التحسس الخلوي وهامش التوقيت لجودة اختبار أعلى.
Formality® نموذج التحقق من الصحة: بناء على UPF ، تحقق معادلة التحقق من الدولة الانتقالية.
متاح حاليا من خلال برنامج SAFE ™ متوافق مع نظام تصميم سينوبسيس الوشق وشهادة تدفق إشارة قابلة لل. الوشق تصميم النظام هو بيئة تصميم كامل رقاقة مع أتمتة مبتكرة، والقدرات التي تساعد على تنفيذ ورصد المصممين التقارير تصميم. وهي تشمل إنتاج تدفق RTL إلى GDSII، وتبسيط وأتمتة العديد من تنفيذ التصميم والتحقق المهام الحرجة، وتمكين المهندسين التركيز على تحقيق أهداف الأداء والتصميم. ويدعم SAFE ™ برنامج لإصدار الشهادات من قبل شركة سامسونج واختبارها على نطاق واسع طقم عملية التصميم (PDK) وتدفق المرجعية (وأساليب التصميم).