Chinas größte Gießerei SMIC neuester 14-Nanometer-FinFET-Prozess ist kurz vor dem Abschluss der Entwicklungsphase seiner Versuchsproduktionsausbeute bereits 95% des 2019 Massenproduktion Ziel erreichen kann, weit entfernt zu sein scheint. Aber Halbleiter nicht genügend Talent-Pool ist nach wie vor ein wichtiges Thema der SMIC gegenüber.
SMIC riesige Kluft zwischen den Generationen mit dem Lager Front-Line
SMIC wurde im Jahr 2000 gegründet und ist das umfassendste, gut unterstützte und größte Unternehmen für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen auf dem chinesischen Festland. Seit seiner Gründung konzentriert es sich auf Halbleiterchips. Von außen ist SMIC der Vertreter von "China Core". .
Der aktuelle Stand der Technik von SMIC liegt jedoch bei 28 nm. Ab dem ersten Quartal 2018 machten 28 Nanometer nur 3,2% des Umsatzes aus, verglichen mit den langsameren fortschrittlichen Prozessherstellern von UMC und Intel. Mehr als eine Generation dahinter, ganz zu schweigen von TSMC, Gromovand, Samsung und anderen Unternehmen, die mit fortschrittlicher Prozessentwicklung schneller voranschreiten, bereiten sich bereits auf den 7-Nanometer-Prozess vor.
Am Ende des zweiten Quartals 2017 TSMC 28-Nanometer-Fertigungsprozess von High-End-Chip hat 54% des Gesamtumsatzes, 40 Nanometer oder weniger 67% ausmacht, während SMIC 2017 Umsatzbeitrag von den höchsten 90 nm kommt und unter Prozesstechnologie, einem Anteil von 50,7%. 2017 SMIC 14 Nanometer-Technologie für Forschung und Entwicklung zum Durchbruch Zeitraum auch der Schlüssel war, wurde die Entwicklung noch nicht abgeschlossen ist. während also bei den 28-Nanometer-SMIC noch kämpfen, TSMC-Technologie hat zumindest Weit vor den drei Generationen.
Um diese Lücke zu schließen, hat SMIC 2017 nicht nur die Position des Co-Chief Executive Officers von Samsung Electronics und des ehemaligen High-Level Leong Mengsong von TSMC übernommen, sondern vor allem seine Erfahrungen aus der Vergangenheit bei der Entwicklung eines 14-nm-FinFET-Prozesses zu nutzen. In diesem Prozess kann das 14-nm-FinFET-Verfahren von SMIC sein Massenproduktionsziel im Jahr 2019 erreichen.
SMIC hat Anfang dieses Jahres auch angekündigt, dass es gemeinsam 10,24 Milliarden US-Dollar in Kooperation mit den beiden großen staatlichen Industriefonds investieren wird, um die Entwicklung und Produktion fortschrittlicher Prozesse bei 14nm und darunter zu beschleunigen und schließlich ein monatliches Produktionsziel von 35.000 Einheiten zu erreichen. Im Fall des 14-nm-FinFET-Prozesses von SMIC, der eine Ausbeute von 95% erzielt, ist dies ein großer Schritt in Richtung des Ziels.
Der Mangel an Talent führt zu einer langsamen Entwicklung der Branche
Seit 18 Jahren ist es SMIC nicht möglich, in die vorderste Reihe auf dem Weg zu unabhängigen Chips vorzustoßen.Zusätzlich zu den langsameren FuE-Fortschritten im Vergleich zu Giganten wie dem Rivalen TSMC ist ein weiterer wichtiger Grund die Zurückhaltung von High-End-Chip-Talenten. Dies ist nicht nur ein Hindernis für die Entwicklung von SMIC, sondern auch ein weit verbreitetes Problem in der chinesischen Chipindustrie: Der Mangel an Talentreserven und Ausbildung ist ein Schlüsselfaktor für die Kluft zwischen Chinas Chiphalbleiterindustrie und der internationalen Spitzenebene.
Das vom Ministerium für Industrie und Informationstechnologie des Ministeriums für Industrie und Informationstechnologie im Jahr 2017 veröffentlichte "Weißbuch über Talente in Chinas integrierter Schaltkreisindustrie" (2016-2017) zeigt, dass derzeit 700.000 Menschen in diese Branche investieren müssen. Der Mangel an Talenten führt zu Chinas integrierter Schaltkreisindustrie. Das langsame Tempo der unabhängigen Innovation.
Südost-Universität als eine der ersten Länder der integrierten Schaltung Trainingslager, in all diesen Jahren sind eine große Anzahl von Talenten für integrierte Schaltungen zu trainieren. Southeast University Einschreibung in der integrierten Schaltung zu einem starken Anstieg der Ausbildung Diplom-Zusammenhang, hat College-Immatrikulation Mikroelektronik mehr als 200 Menschen in den letzten Jahren erhöhte sich im vergangenen Jahr mehr als 400 Menschen. Huazhong Universität für Wissenschaft und Technologie Ausbildung des Personals in der integrierten Schaltung, was einen Anstieg des vergangenen Jahres 120 Diplom-Ingenieur Studenten Orte in teil~~POS=TRUNC, in diesem Jahr plant, 50% der Doktor Einschreibung Plan zu erweitern.
Langfristige Hydrolyse ist jedoch nicht annähernd durstig.Die IC-Industrie ist eine technologieintensive, talentintensive und kapitalintensive Industrie.Ihre Industriekette umfasst Design, Herstellung, Verpackung, Tests, Ausrüstung und Materialien.Diese Industrie betont die Akkumulation von Erfahrungen. Die Kultivierung von Talenten ist kein Erfolg über Nacht, so dass die chinesische Chipindustrie in kurzer Zeit das Dilemma des Talentmangels nicht los wird.
Wie kann man den 'leeren Kern' Schmerz loswerden?
Obwohl das Geschäft von ZTE zu Ende gegangen ist, gibt es keine Kerntechnologie, die "in der Kehle steckt". Die Kerntechnologie wird von Menschen kontrolliert. Die Grundlage für China 2025 ist nicht solide.
Die Entwicklung der Chipindustrie erfordert viel Personal, materielle Ressourcen und finanzielle Ressourcen, zudem werden diese Investitionen kurzfristig nicht wirksam sein, es reicht nicht, dass einzelne Unternehmen alleine vorgehen, schließlich ist die IC-Branche ein nationaler, umfassender nationaler Wettbewerb. .
Obwohl das "Chip-Fieber" von heute einige politische Maßnahmen, Mittel und andere Ressourcen in der Branche der integrierten Schaltkreise umfasst, kann es eine Rolle bei der Anziehung von Talenten spielen. Wenn wir jedoch den Engpass der Talente in Chinas IC-Industrie durchbrechen wollen, müssen wir längerfristige Strategien in Betracht ziehen. Die Hitze stellt nicht nur einen Windstoß dar. Darüber hinaus stellt die Globalisierung von Talenten einen unvermeidlichen Trend dar. Im Kontext des relativ rückständigen industriellen Niveaus Chinas sollten wir unsere Bemühungen verstärken, herausragende globale IC-Talente anzuziehen.
Mit der Veröffentlichung des Nationalen Leitfadens für die Entwicklung der Industrie für integrierte Schaltkreise im Jahr 2014 wurde der Nationale Investitionsfonds für integrierte Schaltkreise gegründet, der seine Unterstützung für führende Unternehmen verstärkt und Unternehmen dazu ermutigt, die FuE-Investitionen in Schlüsseltechnologien in Schlüsselbereichen zu erhöhen. Im Hinblick auf den Mechanismus untersucht die Industrie auch aktiv: Mit den zunehmenden Investitionen in Innovation, der Verbesserung von Innovationsmechanismen und der schrittweisen Verbesserung des Bewusstseins für geistiges Eigentum kann Chinas Chipindustrie den "leeren Kern" -Schmerz beseitigen.