grandes projetos nacionais de ciência e tecnologia através da aceitação de fotorresiste EUV

Recentemente, 'escala equipamentos muito grande integrado de fabricação de circuitos e processo completo' Nacional de Ciência e Tecnologia grandes projetos de implantação de escritório de organizada tarefa especial a aceitação do grupo, 'material EUV fotorresiste pesquisa e tecnologia de laboratório' Financial Group Aceitação de 02 grandes projetos O projeto realizou a aceitação da tarefa e aceitação financeira Os especialistas participantes ouviram o líder do projeto e o líder do projeto relatando a conclusão do projeto e do projeto, o relatório de teste da equipe de teste, o relatório de desempenho financeiro, etc. Os especialistas concordaram que o projeto passou a aceitação.

"A longo prazo Plano de Desenvolvimento da Ciência e Tecnologia (2006-2020)" para determinar o número de temas prioritários em áreas prioritárias, ao mesmo tempo, em torno do objetivo nacional, ainda mais foco, filtrar vários produto estratégico importante, ou tecnologias genéricas-chave como os principais projectos Grandes projetos, e se esforçam para alcançar um avanço, e se esforçam para alcançar um salto de avanço da produtividade através do salto parcial no desenvolvimento da ciência e da tecnologia.

'EUV pesquisa de material fotorresistente e tecnologia de laboratório' 'equipamentos de fabricação de circuitos integrados de escala muito grande e projeto especial (02 projectos) processo completo' pelo Instituto de Química da Academia Chinesa de Ciências Instituto de Física e Tecnologia, Beijing Branch micro materiais eletrônicos Co., Ltd. compromisso conjunto. através dos esforços de todos os membros da equipa de investigação, concluiu o desenho do estudo, preparação e síntese de materiais EUV fotossensíveis críticos, composição formulação e preparação de fotorresiste, avaliação preliminar fotorresiste de desempenho do laboratório O departamento de P & D do equipamento atendeu aos critérios de avaliação de materiais e equipamentos especificados no livro de missões, e aplicou 15 patentes de invenção (incluindo 5 patentes internacionais). Até o momento, 10 patentes concedidas foram concedidas (incluindo 3 patentes internacionais). Treinados 9 doutorandos e 1 mestrando.

Os especialistas de resultados de I & D alcançados no projeto plenamente afirmados, apontou para realizar pesquisa e desenvolvimento de EUV fotorresiste visão estratégica, após vários anos de esforços para projetar os membros da equipe, a conclusão bem sucedida das tarefas de pesquisa e desenvolvimento, as tarefas do projeto para alcançar o livro prescrito indicadores; o estabelecimento de um high-end equipe de P & D na área de fotorresiste, fornecendo suporte técnico para o desenvolvimento estável da indústria de circuitos integrados de semicondutores na China.

Sujeito a suportar as unidades físicas e químicas da Academia Chinesa de Ciências e do Instituto de Unidade de Química no comando da pessoa responsável por anos disse em seu discurso a equipe de P & D do Grupo para apoiar o fotorresiste nossos sinceros agradecimentos a nossa pesquisa e desenvolvimento de produtos químicos eletrônicos de alta qualidade está em rápido desenvolvimento período, a conclusão do projeto irá proporcionar um desenvolvimento estável da indústria de semicondutores da China é uma garantia importante, quero dar apoio contínuo para resistir pesquisa e desenvolvimento high-end; incentivar a equipe de pesquisa e desenvolvimento continuar a trabalhar duro, para jogar no campo do design e preparação de vantagens materiais especiais para China para fazer a sua própria contribuição para o desenvolvimento da indústria de semicondutores.

Autoridades e especialistas nas unidades relevantes do Ministério da Ciência escritório grandes projectos, Comissão Econômica e Tecnologia da Informação Pequim, escritório 02 grandes projectos, o grupo total de 02 grandes projectos e 02 grandes projetos escritório contratados peritos financeiros e especialistas de inspeção de aceitação tarefa participou da Reunião de aceitação.

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