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BASF: चीन के चिप उद्योग के लिए तैयार 10nm प्रक्रिया में प्रवेश

स्रोत: आईटी टाइम्स

लेखक: वांग शिन

सैनिकों और घोड़ों, चारा पहले। हाल ही में, एक नए इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड सल्फ्यूरिक एसिड संयंत्र Jiaxing में स्थित है, Zhejiang BASF रसायन समूह आपरेशन में डाल दिया गया था, अल्ट्रा शुद्ध सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन आने वाले वर्षों में प्रौद्योगिकी के उन्नयन के लिए घरेलू चिप निर्माताओं की जरूरतों को पूरा करेगा, BASF इलेक्ट्रॉनिक सामग्री बिजनेस यूनिट , अल्ट्रा उच्च शुद्धता रासायनिक घोल कि 10nm करने के लिए चीनी चिप निर्माताओं के लिए अनुकूलित कर सकते हैं, 'BASF और संयुक्त राज्य अमेरिका, दक्षिण कोरिया और अन्य चिप निर्माताओं के बीच सहयोग के अनुभव चीन में कॉपी किया जायेगा: डॉ निंग यान जुआन, उपाध्यक्ष, एशिया प्रशांत, "आईटी टाइम्स" संवाददाता से कहा 7nm, चिप निर्माण की प्रक्रिया के लिए भी उच्च मांग। 'सूत्रों के अनुसार, उपकरण, पूरा नहीं किया गया है अर्थात् BASF शुरू कर दिया एक ही समय में विस्तार परियोजना, डबल उत्पादन क्षमता विस्तार परियोजना के लिए विस्तार प्रति उच्च शुद्धता के वर्ष 24,000 टन की, कुल उत्पादन इस साल के अंत तक आपरेशन में डाल होने की उम्मीद है इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड सल्फ्यूरिक एसिड पूरे चीनी चिप बाजार की मांग के एक काफी हिस्से को पूरा करने के लिए।

'IPhone, Huawei में इस तरह के स्मार्ट फोन के रूप में P20 सितारे, मोबाइल फोन चिप निर्माण की प्रक्रिया 10nm स्तर, BASF ग्राहकों तक पहुँच गया है और कुछ चिप निर्माताओं पहले से ही 7nm और 5nm विनिर्माण प्रक्रिया स्तर होता है। इस तरह के सटीक चिप उत्पादन की प्रक्रिया को प्राप्त करने, यह आवश्यक है खरब एक उप-स्तरीय 'ट्रिलियन प्रति' ultrapure रासायनिक पवित्रता का। ओलिंपिक पूल 20 मात्रा के अनुपात में पानी की एक बूंद की तरह। कम से कम 10 नैनोमीटर वेफर नोड के उत्पादन के लिए इकाइयों की संख्या 'परिचय जुआन निंग ने कहा,' प्रक्रिया कई सौ कदम धोने के माध्यम से, BASF Jiaxing सल्फ्यूरिक सबसे तेजी से प्रदर्शन के स्तर पर उत्पादित आज के मानकों, गुणवत्ता और प्रमुख उद्योग की स्थिरता के अर्धचालक गति आवश्यकताओं के अनुकूलतम प्रदर्शन के परे चला गया है एसिड का मतलब है की आवश्यकता है। '

कंसल्टेंसी अर्ध डेटा बताते हैं कि 2017 में वैश्विक वेफर लदान राशि, 400 बिलियन $ तक पहुँच गया है, जबकि चीन के अर्धचालक पूंजी उपकरणों खर्च में वृद्धि दर वैश्विक औसत की तुलना में अधिक हो जाएगा। BASF उम्मीद, 2019 तक, मुख्य भूमि चीनी चिप निर्माताओं होगा 2020 में 14nm प्रक्रिया प्रौद्योगिकी प्राप्त करने, 7-10nm स्तर तक पहुँचने के तेजी से शीर्ष अंतरराष्ट्रीय प्रौद्योगिकी मानकों के साथ पकड़ने के लिए करने के लिए।

डोऊ झेंग, BASF चीन के महाप्रबंधक ने कहा कि Jiaxing संयंत्र एक ही समय में, बीजिंग, शंघाई, नानजिंग, चूंगचींग, चेंगदू, ज़ियामेन और चिप निर्माताओं की आपूर्ति के अन्य शहरों में मुख्य रूप से हो जाएगा, 'यांग्त्ज़ी नदी डेल्टा अभी भी चीन के चिप उद्योग के सबसे बड़े क्षेत्रीय की मांग कर रहा है सबसे पहले, इस Jiaxing में मुख्य BASF साइट से एक है। '

वांग के अनुसार, BASF अल्ट्रा शुद्ध प्रक्रिया दसवां quadrillionth उच्च शुद्धता विकसित कर रहा है, निंग यान जुआन कहा BASF के सहयोग से एक चिप पर प्रयोगशाला में शीर्ष निर्माताओं, BASF आवश्यकताओं के साथ पूर्ण अनुपालन में 4nm प्रक्रिया प्रदान करने में सक्षम हो गया है अल्ट्रा शुद्ध रसायनों।

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