「長期科学技術発展計画（2006-2020）」が同時に優先分野における重点テーマの数を決定するために、国家目標を中心に、さらに焦点に、主要なプロジェクトとして、いくつかの主要な戦略的製品、またはキーの一般的な技術をフィルタリング主要なプロジェクト、および突破口を達成するために努力し、地域の技術開発のリープフロッグ開発を達成するために努力は、生産性を駆動するために飛び込みました。
「EUVフォトレジスト材料の研究と実験室の技術」 '非常に大規模集積回路製造装置や化学研究所、物理学と技術、北京支店のマイクロの科学研究所中国科学院によって、完全なプロセスの特別な（02プロジェクト）プロジェクト電子材料（株）の共同取り組みは。研究チームのメンバー全員の努力によって、重要なEUV用フォトレジスト材料、配合組成及びフォトレジストの準備、実験室でのパフォーマンスのフォトレジストの予備的評価の研究デザイン、準備および合成を完了しましたタスクの本プロジェクトで指定された評価指標の材料や機器への機器の研究開発は、これまで、（5件の国際特許を含む）は、本発明15の特許のための3件の国際特許を含む10件の認可の特許（の合計を適用しています）; 9研修博士課程の学生、大学院生1。
完全に確認したプロジェクトで達成R＆D成果の専門家は、規定の本を達成するために、チームメンバーを投影する努力の数年後、EUV用フォトレジストの戦略的ビジョンの研究開発を行うために、プロジェクトのタスクを研究開発タスクが正常に完了したことを指摘しましたインディケータ;高級フォトレジスト分野の研究開発チームを設立し、中国の半導体集積回路産業の安定した発展のための人的支援を提供した。
年間の中国科学院と責任者を担当する化学単位の研究所の物理的および化学的単位を負担の対象に高品位の電子化学品の研究開発に心からの感謝が急速な発展であるフォトレジストをサポートするために、当社グループのR＆Dチームに彼の演説で語りました期間は、中国の半導体産業の安定的な発展を提供しますプロジェクトの完了は、ハイエンドの研究開発に抵抗する継続的な支援を提供したい、重要な保証であり、研究開発チームは、中国のための特別な材料の利点の設計および製造分野でプレーするために、懸命に仕事を続ける奨励します半導体産業の発展は、それ自身の貢献をしています。
科学省の関連単位の関係者や専門家の主要なプロジェクト事務所、北京経済と情報技術委員会、02の主要なプロジェクト事務局は、02の主要なプロジェクトと02の主要なプロジェクトオフィスの全体的なグループは、金融の専門家を雇って、タスクの受け入れ検査の専門家が参加しました合意会議。