เทคโนโลยีหลักของเซมิคอนดักเตอร์: วัสดุในการวัดแสงที่เกิดขึ้นจริงในประเทศ

ZTE เมื่อเร็ว ๆ นี้เพราะชิปอิเล็กทรอนิกส์เป็นคนพิการสหรัฐอเมริกาเกี่ยวกับการคว่ำบาตรรัฐบาลสหรัฐเพิ่มขึ้นและลงของประเทศอีกครั้งความนิยมของเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ แต่ยังคนจำนวนมากเข้าใจผู้ผลิตภายในประเทศในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ที่ย้อนหลังดังนั้นไม่เพียง แต่ปลายน้ำของการพัฒนาชิปการออกแบบไม่ได้เซมิคอนดักเตอร์ต้นน้ำ อุปกรณ์วัสดุเป็นอย่างมากขึ้นอยู่กับการนำเข้า

โชคดีที่สถานการณ์เช่นนี้มีการเปลี่ยนแปลงเทคโนโลยีการพิมพ์หินที่จำเป็นสำหรับการผลิตชิพอยู่ในขณะนี้แล้ว บริษัท ในประเทศได้ยึดเทคโนโลยีที่สำคัญอีกอย่างหนึ่งของแกนหลักของจีน

เราได้ยินคำศัพท์หลายอย่างเช่น photolithography, etching และ nm และพวกเขายังไม่ค่อยคุ้นเคยกับ photoresist

เวเฟอร์ซิลิคอนที่ซื้อมาสามารถใส่ลงในสายการผลิตได้หลังจากได้รับการตรวจสอบโดยไม่เกิดความเสียหายอาจมีกระบวนการสร้างฟิล์มหลายชนิดในระยะแรก ๆ และจะเข้าสู่ขั้นตอนการเคลือบผิวด้วยแสง (photoresist) ขั้นตอนการพิมพ์เป็นเทคโนโลยีการถ่ายสำเนาภาพ เป็นกระบวนการที่สำคัญในกระบวนการผลิตวงจรรวม

ขั้นแรกให้ไวแสง (เรซินแสง) ถูกทิ้งอยู่บนพื้นผิวซิลิคอนเวเฟอร์แพร่กระจายไปยังเครื่องแบบต่อต้านภาพยนตร์โดยการหมุนความเร็วสูงและถูกนำไปใช้ที่อุณหภูมิที่เหมาะสมของหายต่อต้านภาพยนตร์

เพื่อให้รังสีอัลตราไวโอเลตสามารถสร้างแผนภาพวงจรในหน้ากากบนเครื่องฉายแสงได้หากจำเป็นต้องใช้ความสามารถในการรับแสงหลายครั้งและใช้ระบบโฟโตสเฟียร์ซ้ำ ๆ ดังนั้นจึงไม่สามารถสร้างวงจรของขั้นตอนนี้ได้ ออก

ไวแสงกับแสงอุณหภูมิและความชื้นวัสดุที่ไวต่อการเปลี่ยนแปลงทางเคมีอาจเกิดขึ้นหลังจากที่ไฟซึ่งเป็นพื้นฐานของกระบวนการโดยรวม

มีหลายประเภทที่แตกต่างกันของสารไวแสง, PMMA (อะคลิลิ), ลิ glutarimide (PMGI) และ DNQ (เรซินฟีนอล) และชอบสามารถทำได้วัสดุไวแสง. ตามข้อมูลที่จะเป็น 2022 มูลค่าตลาดตลาดไวแสงทั่วโลกจะได้ 41.5 $ พันล้านอัตราการเติบโตต่อปีที่ 5.5% - ตัวเลขนี้มีขนาดใหญ่กว่ามูลค่าตลาดของพิมพ์หินต่อต้านหลังจากทั้งหมดเป็นวัสดุสิ้นเปลือง

ปัจจุบันมีผู้เข้าร่วมตลาด photoresist หลายรายมาจากประเทศสหรัฐอเมริกาญี่ปุ่นเกาหลีใต้และประเทศอื่น ๆ ได้แก่ Dow Chemical, DuPont, Fujifilm, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo Chemical, LG Chemicals ฯลฯ และ บริษัท จีนในสาขา photoresist ขาดเทคโนโลยีหลัก

วันนี้ทาง Science and Technology Daily ได้รายงานว่า บริษัท Photoreist ในประเทศซึ่งพัฒนาโดย Shengquan Co., Ltd. ซึ่งพัฒนาขึ้นใน 26 ปีแล้วประสบความสำเร็จในด้านการผลิตภายในประเทศ บริษัท ได้ทำลายระบบการผูกขาดของ บริษัท ต่างๆเช่นสหรัฐอเมริกาญี่ปุ่นและเกาหลีใต้

บริษัท Quan อยู่ในขณะนี้ บริษัท ฟีนอลเรซินใหญ่ที่สุดในเอเชียจากความร่วมมือทางวิชาการกับอังกฤษในปี 1997 Quan Hayworth แร่ธาตุและสารเคมีพิน จำกัด ถึงการแนะนำของเทคโนโลยีการผลิตฟีนอลเรซินที่ทันสมัยที่สุดของสหราชอาณาจักรที่มีตั้งแต่การแนะนำของ เทียนจินไปที่เดิมพืชเรซินหัวหน้าวิศวกร Li Naining วิศวกรรมนำโดยชุดของการวิจัยและพัฒนากระดูกสันหลัง

ในปี 2007 ในความร่วมมือกับสถาบันเคมีจัดตั้ง 'ฟีนอลเทคโนโลยีเรซินศูนย์การวิจัย, การแนะนำและการพัฒนาของจำนวนของการบินและอวกาศและโครงการทางทหารรวมทั้งวัสดุระเหยจรวดทนรวมทั้งหลังจากเสร็จสิ้นการเวิร์คสเตชั่เอกที่มีหลายสถาบัน ดำเนินการความร่วมมือการวิจัยในปี 2011 การเปิดตัวของเทคโนโลยีการผลิตอีพ็อกซี่เรซิ่นขั้นสูงของญี่ปุ่นที่สร้างขึ้นอิเล็กทรอนิกส์เกรดอีพ็อกซี่เรซิ่นพิเศษโรงงานใหญ่ที่สุดของประเทศ

เป็นเพียงรายงานฉบับนี้ที่นอกเหนือจากการชี้แจงว่า photoresist ในประเทศเป็นชนิดฟีนอลเรซินประสิทธิภาพที่เฉพาะเจาะจงยังไม่ทราบอย่างไรก็ตามหลังจากประสบความสำเร็จจากการพัฒนาจากรอยขีดข่วนจะมีต้นทุนการพัฒนาในอนาคต บริษัท ในประเทศจำนวนมากทำเช่นนั้น เป็นผลให้เทคโนโลยีผ่านและมีโอกาสที่จะมีส่วนร่วมในการแข่งขันมิฉะนั้นคุณสมบัติที่เกี่ยวข้องกับการแข่งขันของไต้หวันไม่ได้แล้วพูดคุยเกี่ยวกับการไล่ล่าและยิ่งใหญ่กว่านั้น