"Made in China 2025" Technology Roadmap: Future Research EUV Máquina de litografía

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¿Por qué la industria de semiconductores basada en silicio puede crecer? Porque el silicio es uno de los materiales semiconductores más económicos en la Tierra, y la arena contiene una gran cantidad de silicio. Incluso las promos producidas por Intel se llaman "de la arena a los chips". Sin embargo, por otro lado, la industria de semiconductores es una de las más avanzadas en la industria de fabricación global. También es una industria que China está tratando de superar. En la hoja de ruta de la tecnología "Made in China 2025", enumera una serie de procesos de semiconductores que deben superarse. Tenga en cuenta la máquina de litografía EUV y la industria de obleas de 18 pulgadas.

En las tres principales industrias de diseño, fabricación y embalaje y pruebas de la industria de semiconductores, las empresas chinas necesitan dominar más nuevas tecnologías. La hoja de ruta de tecnología para "Made in China 2025" enumera una serie de tecnologías industriales, incluida la tecnología de compuerta metálica HKMG. , Proceso FinFET, exposición múltiple, fotorresistencia de 193 nm, fotomáscara y varias tecnologías de envasado avanzadas, pero en términos de equipos principales y materiales de montaje, existen los siguientes contenidos técnicos:

En los cuatro aspectos de equipos de fabricación, máquinas de litografía, materiales de fabricación y equipos y materiales de envasado, entre los equipos de proceso de 20-14 nm enumerados, las máquinas de litografía inmersiva y los materiales de proceso de 20-14 nm, actualmente existen fuerzas técnicas en el país. Investigación, no es necesario para 2025, el proceso nacional de 14nm en la producción de energía, la industria de materiales relacionados también tendrá un gran avance.

Esto varias técnicas sofisticadas, principalmente máquinas de litografía EUV, equipos y obleas de 18 pulgadas (TSV paquete también considerados, pero el otro dijo), soy sensible a la razón de esto se debe a que estas dos tecnologías no son fácil, la industria de los semiconductores es extremadamente difícil una nueva generación de la tecnología, los procesos, estos retos no bajan dificultad técnica para china.

En términos de la litografía EUV, Academia de Ciencias de China Changchun Instituto de Óptica, dirigió el desarrollo de grandes proyectos de 02 proyectos de ciencia y tecnología nacional - 'Las tecnologías clave para ultravioleta extremo Litografía' en 2016 pasó la inspección, aunque esto es sólo un pre-investigación técnica, a partir de crear litografía EUV el momento, pero al menos que el país se encuentra todavía en el equipo de investigación y desarrollo.

En cuanto a la otra oblea de 18 pulgadas, que es obleas de 450 mm, esto también se disparó hace unos años a nivel internacional, SNTI (Hoja de Ruta Tecnología Internacional para Semiconductores Unión) optimistas en el año 2003 se espera que 18 pulgadas obleas será capaz de salir en 2012 , El resultado ... Anteriormente se dijo que Intel usó obleas de 18 pulgadas en 2018, TSMC no mencionó las obleas de 18 pulgadas en los últimos años, y el desarrollo de la tecnología aún puede estar en progreso, pero el futuro de las obleas de obleas de 18 pulgadas También es poco probable que esté allí durante el año.

Todos sabemos que cuanto mayor es el diámetro de la oblea, mayor será el área y el área de la oblea 18 pulgadas es de 12 pulgadas (obleas de 300 mm) de 2,25 veces, si la producción mejorará en gran medida la producción del chip, pero la preparación no está obleas de gran tamaño fácil, la inversión relacionada con el Fab es de diez mil millones de dólares el nivel de Estados Unidos, el riesgo es demasiado alto, no se ve qué compañía tiene ahora la posibilidad de invertir y construir fábricas.

A partir de ahora, si puedo salir del país 18 pulgadas tecnología y el equipo de la oblea, lo que realmente es el turno para adelantar, miedo miedo de la hoja de ruta es una manera casual, no tiene en cuenta las posibilidades futuras.

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