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今年インテル、TSMC、サムスン、グローバルファウンドリーズと他の半導体企業プロセス技術は10nmで、7nmでノードに進化してきた、最も先進的な国内技術はまだ28nmプロセス、以上の3つの世代のギャップです。
なぜ、国内の半導体プロセスを開発しませんか？多くの人々は、高度なリソグラフィ、特にEUVリソグラフィ機、理由の中国の欠如は、中国へのEUの禁止EUV米国の導入ではないことを言うだろう。これは実際には何年もの間循環噂です、EUVリソグラフィマシンはすぐに、中国を入力します 日本のメディアは、SMICは$ 120百万円（編集者注：およそ7.65億元）の単価とASMLのEUVリソグラフィマシンに発注されたことを報告し、来年早々に配信されることが期待されます.
製造ますます困難10nmの半導体プロセス・ノードも、持続不可能な従来の193nmの紫外線リソグラフィマシンを入力した後、EUV極端紫外線リソグラフィ機はキー画期的なプロセス技術となります。
リソグラフィは、かつて日本のキヤノン、ニコンの重要な製品でしたが、今のハイエンドASMLリソグラフィマシンが独占されている、それはEUVリソグラフィでは唯一のものです。日経ニュースアジアは今日報告したSMIC（ SMIC）は、$ 120万ドルの単価でASMLのEUVリソグラフィマシンに会社を命じた初期の2019年に配信されると予想しています。
インテル、サムスン、TSMCとGFの前にダウンASMLのEUV注文へ行き、TSMCは、約10を命じた、およそ6は、Intelが今年3台のEUVリソグラフィ機械を紹介します、サムスンを命じ、GFも注文したが、日ニュースには特定の金額は言及されていません。
中国の企業が高度なリソグラフィー機器を購入できるかどうかは、中国の企業がワッセナー合意により高度なリソグラフィー機器の購入を禁止されているという噂が流行っているという噂があることから、 Nikkei Newsによると、SUV調達EUVリソグラフィー機はニュースではないとの報道が多い。
昨年、台湾メディアDigiTimesは、問題の少ないを購入するお金がない、ASML中国地域ゼネラルマネージャーキム・スアン、ASMLのリソグラフィ機や無禁輸措置は、すべての顧客のために、同社は平等に扱われ、後者噂にインタビューしました。彼はまた、明らかにしました中国の顧客は、購入EUVリソグラフィマシンを交渉する必要があり、注文が確認された場合、その後、中国の製造工場を入力するには2019年で最速のEUVリソグラフィマシンがあるだろう、ASMLは楽観的です。
同社の14nmのプロセスであるが、大量生産に2019年初頭が、国内需要EUVリソグラフィ機までの場合、中国企業SMICの両側での比較では、ほとんど唯一の彼らは、2017 SMICは、すでに彼らを言いました7nmで事前研究プロセス、および研究を行うためにEUVリソグラフィマシンを命じ正常です。
