TSMC 7nm proceso de producción en masa: 65% de reducción en el consumo de energía, 20% de reducción en el consumo de energía en el futuro 5nm

En nodo 7 nm, TSMC ambicioso, además de la 7 nm oficial Vega mencionó chip de AMD, pero también sostiene una pluralidad de TSMC chip de 7 nm de silicio 50, el nuevo proceso puede mejorar el rendimiento en un 35% o 65% menor consumo de energía, el futuro de actualización Después de 5nm, el rendimiento se puede aumentar en un 15%, el consumo de energía se reduce en un 20%.

Intel en 14nm, 10nm proceso de dar a luz a la oportunidad de ponerse al día con otras empresas de semiconductores, desde la introducción de los chips de 10nm no puede ser antes de 2019, Samsung, TSMC 7 nm proceso de producción de este año, esta ronda de la competencia de Intel verdadera los perdidos, incluso si el funcionario ha declarado en repetidas ocasiones su propio nodo de proceso 10nm aparte de la casa 7 nm en el rendimiento, una mejor densidad de transistores es inútil. en el nodo 7 nm, TSMC ya es ambicioso, además de oficial de 7 nm de AMD mencionado Vega fuera del chip, una pluralidad de celebración de un 50 7 nm de chip adicional de silicio TSMC, el nuevo proceso puede mejorar el rendimiento en un 35% o 65% menor consumo de energía, después de 5 nm a futuras actualizaciones puede mejorar aún más el rendimiento de 15%, 20% menos de energía.

informó EETimes hoy que guía de tecnología de TSMC, los funcionarios anunciaron los detalles del proceso y el futuro 5 nm 7 nm, sobre todo el primer proceso de 7 nm generación, producirá este año, y hay más de 50 fichas pegadas una tras otra, en relación con la CPU, GPU, chip AI, chip de criptomoneda, red, juego, 5G, chip de piloto automático, etc.

proceso de 7 nm mejorará el rendimiento de un 35% o 65% de reducción en el consumo de energía, la densidad de chips alcanza el nivel tres veces - aquí está el texto original no mencionó los cuales comparar, pero no puede ser de 10 nm, sitio web oficial TSMC resultados contrastan con el proceso de 10 nm es 20% de aumento de rendimiento o disminuir la potencia en un 40%, 1,6 veces la densidad del chip, por lo que es probable que haya contrastar proceso de 16 nm TSMC.

proceso de primera generación 7 nm no utiliza proceso de litografía EUV, N7 + nodo pasará litografía EUV, pero se cambia el proceso de fabricación, N7 + ningún cambio en el rendimiento del proceso, la densidad de transistor reducción de aproximadamente el 20% en el consumo de energía en un 10% .

Además, el proceso N7 + aunque el rendimiento actual es buena, pero hay algunos elementos clave para el final de este año o principios del próximo año con el fin de conseguir el proceso completo para herramientas EDA + N7 probablemente tienen que esperar hasta agosto.

TSMC también corren el riesgo de prueba de este año después del proceso de producción de 7 nm 5 nm, en comparación con el proceso de 7 nm inicial, proceso de TSMC es, probablemente, ya sea 5 nm para reducir el consumo energético en un 20%, luego 1,8 veces mayor densidad de transistores, como el rendimiento, se espera que el aumento en un 15%, pero El uso de nuevos equipos puede aumentar en un 25%.

De acuerdo con el plan anterior, se espera que el proceso de 5 nm de TSMC esté en producción en volumen en 2020, cuando las palabras suaves de Intel puedan ingresar al nodo de 7nm.

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