Produção em massa do processo TSMC 7nm: redução de 65% no consumo de energia, redução de 20% no consumo de energia no futuro 5nm

No nó de 7nm, a TSMC já é ambiciosa.Além dos chips Vega de 7nm mencionados pela AMD, a TSMC também possui mais de 50 chips de 7nm.O novo desempenho do processo pode ser aumentado em 35% ou o consumo de energia pode ser reduzido em 65%. Após o desempenho de 5nm pode ser aumentado em 15%, o consumo de energia reduzido em 20%.

Intel em 14nm, 10nm processo de dar à luz a oportunidade de apanhar com outras empresas de semicondutores, desde a introdução de chips de 10 nm não pode ser antes de 2019, Samsung, TSMC vai 7nm processo de produção deste ano, esta rodada da competição Intel verdadeira o perdido, mesmo se o funcionário declarou repetidamente o seu próprio nó de processo 10nm fora de casa 7nm no desempenho, melhor densidade transistor é inútil. no nó 7nm, TSMC já é ambicioso, além de oficial 7nm Vega AMD mencionado fora do chip, uma pluralidade de manter uma 50 7nm chip de mais de silício TSMC, o novo processo pode melhorar o desempenho em 35% ou 65% menor consumo de energia, depois de 5 nm a melhoramentos futuros pode melhorar ainda mais o desempenho de 15%, 20% menos energia.

EETimes hoje relatou que roteiro de tecnologia da TSMC, as autoridades anunciaram os detalhes do processo e futuro 5nm 7nm, acima de tudo, o primeiro processo 7nm geração, vai produzir este ano, e há mais de 50 fichas gravadas fora uma após a outra, relacionada com CPU, GPU, chip AI, chip criptomoeda, rede, jogo, 5G, chip de piloto automático etc.

processo 7nm irá melhorar o desempenho de 35% ou 65% de redução no consumo de energia, a densidade de chips atinge o nível três vezes - aqui é o texto original não mencionou quem comparar, mas não pode ser 10nm, resulta site oficial TSMC contraste com o processo de 10nm é 20% de aumento de desempenho ou diminuir a potência de 40%, a 1,6 vezes a densidade do chip, de modo que há, provavelmente, é contrastar processo 16nm TSMC.

7nm processo de primeira geração não se usar o processo de litografia EUV, N7 + nó irá passar litografia EUV, mas o processo de fabrico é alterada, N7 + nenhuma alteração no desempenho do processo, a densidade transistor redução de cerca de 20% no consumo de energia em 10% .

Além disso, N7 + processo, embora o rendimento atual é bom, mas existem alguns elementos-chave para o final deste ano ou início do próximo ano, a fim de obter todo o processo para obter ferramentas N7 + EDA provavelmente terá que esperar até agosto.

TSMC também o risco de ensaio este ano após o processo de produção 7nm 5 nm, em comparação com o processo 7nm inicial, processo da TSMC é provavelmente mais ser 5 nm para reduzir o consumo de energia em 20%, em seguida, 1,8 vezes maior densidade transistor, como desempenho, espera-se que um aumento de 15%, mas O uso de novos equipamentos pode aumentar em 25%.

De acordo com o plano anterior, espera-se que o processo de 5nm da TSMC esteja em produção em volume em 2020, quando as palavras suaves da Intel podem entrar no nó de 7nm.

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