南大光电:投资9.6亿在宁波开拓193nm光刻胶材料

集微网消息, 南大光电1月12日晚公告, 公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订投资协议书, 公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目, 项目总用地面积约86亩, 其中一期总投资预计约9.6亿元.