南大光电投建193nm光刻胶项目, 一期总投资9.6亿元

集微网消息, 1月12日晚间, 南大光电发布公告, 公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订《投资协议书》, 公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目, 项目总用地面积约86亩, 其中一期总投资预计约9.6亿元.

对于签订此次投资协议的原因, 南大光电表示, 是为了抢抓机遇, 加快项目进度, 落实公司长期发展战略, 利用自身优势, 推动中国高端光刻胶产业的快速发展.

目前整个PCB电路板市场缺货涨价, 且已旷日持久. 业内人士在接受集微网采访时表示, 目前PCB市场自去年以来, 受多方原因, 整体涨价幅度在20-30%, 其中光刻胶材料也在同步涨价, 尤其是高端光刻胶材料因PCB工艺的升级, 所需更大.

南大光电表示, 公司拟实施高端集成电路制造用 193nm 光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目, 目前处于研发阶段. 而一旦此次签署的投建项目落地, 达产后年产值预计约 3.75 亿元, 将对南大光电的产品升级和市场营收带来直接的效率.

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