公司称, 本次收到的政府补助, 预计将会增加公司 2017 年度利润总额 1016 万元.
12月5日, 由北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的国内首台12英寸原子层沉积 (AtomicLayerDeposition, ALD) 设备进驻上海集成电路研发中心.
11月30日, 北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的12英寸立式氧化炉THEORISO302进入长江存储生产线, 应用于3DNANDFlash制程;
北方华创接受逾20家机构投资者调研时表示, 集成电路制造产线的投入主要由扩产规模决定, 以12吋集成电路制造产线大致为月产1千片/1亿美元为例, 其中70%是设备投资, 30%是基建投入. 根据数据统计, 设备投资中刻蚀机占21%, CVD设备占15%, 清洗设备占8%, PVD占5%, 热处理设备占3%.
北方华创称, 目前已有多家集成电路制造厂商公布了扩产计划, 如中芯国际已公布上海月产7万片, 深圳月产4万片, 天津月产10万片等的扩产计划, 长江存储公布了总计30万片的扩产计划, 华力微电子也公布了月产4万片的扩产计划, 未来公司将根据客户的实际建设进度, 积极争取相关设备订单.
作为国家02 重大科技专项承担单位, 北方华创凭借深厚的技术积累与开发填补了我国半导体设备领域的多项空白, 目前北方华创的12吋28nm制程的刻蚀机, PVD, 立式氧化炉, 清洗机, LPCVD等设备已处于产业化初期阶段, 相关产品已交付客户, 同时已有6款12吋14nm制程设备进入客户端开展工艺研发, 其主要客户为中芯国际, 武汉新芯, 三安光电, 华灿光电, 京东方, 乐叶光伏, 晶澳太阳能等.