前应材工程师被控盗窃技术中国创业

集微网消息, 据彭博社报导, 美国检察官12月6日发布声明说, Donald Olgado, Liang Chen (52岁) , Wei-Yung Hsu (57岁) 与Robert Ewald (60岁) 被控从应用材料公司的内部工程数据库下载数据, 包括16 ,000多张图纸, 并密谋引诱投资者投资一家中国初创公司, 跟他们的前雇主竞争.

其中身为产品业务部门工程总监的Olgado在应材服务将近20年, 显然因为此事在2013年遭到公司开除, 而另外3人则是早在2012年年底便已陆续请辞.

这4名前应材工程师在2000年7月至2012年12月期间, 涉嫌从公司的内部工程师数据库私自下载包括1.6万张设计图在内的大量信息, 并将其储存在个人的Google云端硬盘; 而这些数据多半都牵涉到在现今的半导体制程中堪称十分重要, 名为「 有机金属化学气相沉积法」 (MOCVD) 的一项技术.

应用材料公司发言人声明说, 应用材料公司积极保护它的知识产权免于盗窃或非法使用. 我们支持这宗刑事案件的法律行动, 以确保任何非法获取我们商业机密的人都被绳之以法.

起诉书说, 被盗的技术涉及在所谓金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 芯片上形成结晶层的复杂过程. 该技术是应用材料公司通过多年的研究和测试开发出来, 耗费了数百万美元. 应用材料公司的Paragon项目开发了一个所谓NLighten的消费者产品, 四名嫌犯被控试图复制这个产品.

起诉书说, 大约在2000年7月到2012年12月之间, 四名嫌犯密谋盗窃MOCVD技术, 并用它来创建一个名为Envision的竞争公司. 他们打算在美中两地开设公司. 这四人使用个人电子邮件账号描述计划, 他们指示低级别雇员帮助他们下载保密材料, 然后将之储存在Google驱动器账号上. 这四人还从公司在加州的办公室实体获取了MOCVD技术.

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