La prohibición prohíbe a SGL vender portadores de obleas para la deposición de vapor químico metalorgánico sin base (MOCVD) utilizando la tecnología patentada de Veeco, incluidos los portadores de obleas diseñados para el sistema AMEC MOCVD.
John R. Peeler, presidente y director ejecutivo de Veeco, dijo: "Este fallo confirma la solidez de la propiedad intelectual de Veeco y su cartera global de patentes. Veeco está comprometida con la propiedad intelectual y está firmemente comprometida a salvaguardar su inversión significativa en I + D, que incluye Sus patentes en los Estados Unidos, Europa y Asia, especialmente en China.
La decisión entró en vigor de inmediato, prohibiendo a SGL el envío de portadores de obleas utilizando la tecnología patentada de Veeco sin la autorización expresa de Veeco, lo que también significa que SGL tiene prohibido ofrecer portadoras de obleas para todos los sistemas AMEC MOCVD.
El tribunal también dictaminó que, a pesar de los argumentos de SGL por el contrario, la empresa Veeco sobre 'Veeco MOCVD patente portador de pastillas sin fondo del reactor utilizado por la infracción cometida por SGL y la patente válida' reconocimiento de la posibilidad de que él tiene la gran. SGL había argumentado que el portador de pastillas se basa en las especificaciones de AMEC. la pantalla fallo, AMEC no respeta la propiedad intelectual de Veeco.
En los casos de patentes, la medida cautelar es muy raro, porque el embargo antes de que el veredicto del jurado de infracción de patente promulgó tiene muy estrictos requisitos legales. Por lo tanto, esta decisión muestra claramente la naturaleza de la infracción de SGL y AMEC de los derechos de propiedad intelectual Veeco .
Veeco el 12 de abril de 2017 Nueva York corte federal para el Distrito Este de SGL Carbon, LLC y SGL Carbon SE puso en marcha una infracción de patente de producción SGL portadora demanda. Oblea de base para el sistema de no-MOCVD. Además de una prohibición temporal de fuera, Veeco busca prohibiciones permanentes y compensaciones financieras.
Además, Veeco anunció el 1 de noviembre y ALLOS Semiconductores (ALLOS) entraron en un movimiento estratégico, lo que demuestra la producción de obleas de silicio de 200 mm para de GaN azul / verde micro-LED. Veeco y ALLOS cooperación Ha trasladado su tecnología patentada epitaxial al sistema MOCVD de oblea simple de Propel para permitir la producción de micro-LED en las líneas de producción de silicio existentes.
'Uso Propel la cámara de reacción, que tendría una técnica MOCVD, la técnica de GaN epitaxial puede lograr un alto rendimiento, se reúne todos los requisitos de la producción de dispositivos micro-LED 200-mm línea de producción de silicio, la Semiconductor CEO Burkhard ALLOS dijo Slischka.
'Tenemos menos de un mes en nuestra tecnología en la verificación de propulsión, y obtenemos libre de grietas, que no se derrite posterior de la oblea, la deformación es inferior a 30 micras, calidad de cristal de alta, es excelente en la uniformidad de espesor, uniformidad de la longitud de onda de menos de 1 nm. unirse con Veeco, ALLOS mirando hacia adelante en la técnica para promover más la industria micro LED. '
Micro-tecnología de pantalla LED por el<30x30平方微米的红, 绿和蓝(RGB)无机LED组成, 这些LED被转化为显示屏背板, 以形成亚像素. 与有机LED (OLED) 和液晶显示 (LCD) 相比, 这些高效的LED直接发射功耗更低, 却可以为移动显示器, 电视和可穿戴式计算机提供优异的亮度和对比度. Micro-LED 的制造要求优质, 均匀的外延晶圆, 以满足显示屏的产量和成本控制的要求.
'La tecnología TurboDisc de Veeco ofrece una ventana de proceso más grande que la plataforma MOCVD de su competencia, por lo que Propel ofrece uniformidad de primera calidad y al mismo tiempo logra una calidad de película superior', Vicepresidente Senior y Gerente General de Veteco, Operaciones de MOCVD Dijo el Dr. Peo Hansson.
"La combinación de la experiencia líder de MOCVD de Veeco con la tecnología Waiting Epitaxial Wafer de ALLOS permite a nuestros clientes desarrollar micro-LEDs de bajo costo para abrir nuevas aplicaciones en nuevos mercados".